Gebraucht STS / CPX Multiplex ICP #9243850 zu verkaufen
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ID: 9243850
Wafergröße: 6"
Weinlese: 2001
Plasma etcher, 6"
ICP Process chamber
Chamber
Coil RF generator and matching unit
Electrode RF generator and matching unit (Platen)
Phase shift controller
VAT Isolation valve
Turbo pump
EDWARDS QDP40 Dry pump
Gas box
Cluster multiplex Prime Power Distribution (PPD) cabinet
Process chamber electronics
Materials processed: Si, SiO2, Al2O3, Ta, Ti
Process gases: CF4, SF6, Ar, O2, H2
Missing parts:
(2) Control modules
Exhaust pipe
Matching box
MAG / Phase detector
Load port
Power supply: 208 VAC, 60 Hz, 8.32 kVA, 3-Phase
2001 vintage.
STS/CPX Multiplex ICP ist eine hochmoderne Ätz-/Aschereinrichtung von Oxford Instruments für eine Vielzahl von Halbleiterherstellungs- und Laboranwendungen. Das System ist mit einem proprietären Ätzreaktor und zugehörigen Computersteuerungen und Software gebaut. STS Multiplex ICP-Einheit bietet höhere Rate Ätzen als andere Ätzsysteme auf dem Markt, unter Beibehaltung der notwendigen Kontrolle und Einheitlichkeit der Ätzprofile und Funktionen. CPX Multiplex ICP-Maschine verfügt über eine mikrowelleninduzierte Plasma (MIP). Die MIP-Technologie verfügt nachweislich über das gleichmäßigste Ätzen aller Ätzsysteme. Das MIP-Werkzeug produziert extrem einheitliche Substratprofile und Eigenschaften mit extrem niedrigem Ionenbeschuss sowie hoher Wiederholbarkeit. Die Anlage ist für ein EF- oder DC-Netzteil ausgelegt, das eine größere Flexibilität im Anwendungsprozess ermöglicht. Multiplex ICP-Modell enthält auch Software, mit der ein Benutzer den Ätzprozess automatisieren kann. Die Software bietet eine Vielzahl von Parametern, die im Ätzprozess gesteuert werden können, einschließlich Ätzzeit, Druck, Temperatur und Durchfluss. Zusätzlich verwendet das Gerät ein Absperrventil, das sicherstellt, dass das Ätzen nach Abschluss des Prozesses stoppt. Dies ermöglicht eine präzise Steuerung des Ätzprozesses und eine verbesserte Produktausbeute. STS/CPX Multiplex ICP ist für den Einsatz in verschiedenen Labor- und Produktionsanwendungen wie z.B. Ätzen von Trenchisolierungen, Laminierung, Feinlinienmetallisierung und durch Ätzen konzipiert. Es bietet auch eine Handschuhkarton-Option, um korrosive Gase zu handhaben. STS Multiplex ICP ist ein sehr vielseitiges System, das auf spezifische Ätz- und Abscheidungsanforderungen zugeschnitten werden kann. Das Gerät bietet gleichbleibend hochwertige Ätzprofile mit niedrigem Ionenbeschuss, was eine optimale Geräteleistung gewährleistet. Mit den neuesten digitalen Technologien und Software können Anwender einen Prozess programmieren, um unbeaufsichtigt zu laufen, wodurch es einfach ist, hochwertige Substrate mit außergewöhnlicher Einheitlichkeit und Wiederholbarkeit zu ätzen.
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