Gebraucht STS / CPX Multiplex ICP #9316178 zu verkaufen

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ID: 9316178
Etcher Maximum powers: 600 W and 3000 W Gas lines: C4F8, SF6, O2 and Ar Frequency: 13.56 MHz ICP (Source) and Platen power sources (Bias).
STS/CPX Multiplex ICP (Inductively Coupled Plasma) Etch/Asher ist eine hochentwickelte Ausrüstung für die Massenproduktion von mikroelektronischen Komponenten. Das System ist in der Lage, bis zu 10 Wafer pro Lauf zu verarbeiten, mit einer Durchlaufzeit von 300 Sekunden (5 Minuten) pro Lauf. Das Gerät nutzt die bekannte und hoch angesehene ICP-Technologie, die ein einfaches, schnelles und kostengünstiges Ätzen verschiedener Metalle und Dielektrika ermöglicht. STS Multiplex ICP ist ein kostengünstiges Werkzeug, das eine sehr gleichmäßige Ätzung über den gesamten Wafer im Gegensatz zu herkömmlichen Lösungen bietet, die eine zusätzliche Verarbeitung erfordern, um die gleiche Genauigkeit zu erhalten. Herkömmliche wässrige Ätzlösungen erfordern oft einen großflächigen Ätzaufbau, der sowohl teuer als auch zeitaufwendig sein kann, während CPX Multiplex ICP-Maschine große Genauigkeit für die gleichen Kosten- und Zeitanforderungen bietet. Das ICP-Tool verwendet einen HF-Generator, um eine hochfrequente Plasma- oder geladene Gasphase zu erzeugen, die mikroskopische und teilchengroße Teilchen enthält, die verschiedene Arten von Materialien ätzen und aschen können. Der ICP-Ätzer ist in der Lage, < 100nm Funktionen auf > 10 µm Präzision zu ätzen/zu veraschen. Das Asset ist auch in der Lage, mehrere Ätzungen und Aschen durchzuführen, wodurch mehrere Schichten von Materialien im selben Lauf geätzt und axt werden können. Die Wafer werden vorgeladen, in die Kammer geladen und die Ätz- und Ascheprozesse beginnen automatisch. Nach Fertigstellung werden die Wafer entladen. Darüber hinaus kann das Modell in vor- oder nachgelagerte Systeme integriert werden, um konsistentere Prozessparameter zu gewährleisten. Dadurch wird die Zykluszeit des Ätzprozesses gegenüber herkömmlichen Ätzsystemen, die eine individuelle Einrichtung jedes Prozesses vor dem Start erfordern, weiter reduziert. Die Ausrüstung ist nicht nur kostengünstig, sondern auch einfach zu bedienen, so dass Benutzer jeder Erfahrungsstufe den Ätz-/Ascheprozess schnell meistern können. Die Vielseitigkeit des Systems bedeutet, dass es für verschiedene Anwendungen wie Feinstrichätzen, Passivieren, Polieren, konische Löcher, isotropes Ätzen und mehr verwendet werden kann. Insgesamt ist Multiplex ICP eine kostengünstige Einheit, die in der Lage ist, sehr einheitliche und genaue Ergebnisse zu liefern. Die Maschine nutzt fortschrittliche und bekannte ICP-Technologie, um einen einfachen, schnellen und zuverlässigen Ätz- und Ascheprozess zu ermöglichen. Darüber hinaus macht die Vielseitigkeit des Werkzeugs es für mehrere Anwendungen geeignet, so dass Benutzer genaue, feine Linienmerkmale und mehr erstellen können.
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