Gebraucht STS Multiplex ICP HR #9272076 zu verkaufen

ID: 9272076
Wafergröße: 6"-8"
Dry etchers, 6"-8" SI Advanced Silicon Etch (ASE) With BOSCH Process MAC Loader Carousel vacuum load lock Helium Backside Cooling (HBC) HBC Assy: ICP V2 Clamp type: Standard WTC Lower electrode: ICP WTC Tripod lift No chamber insulation jacket RF Generators: ENI GHW-50Z Coil RF Power, 3 kW ENI ACG-3B Platen RF Power, 13.56 MHz, 300 W Gases: C4F8 (200 sccm) SF6 (1000 sccm) O2 (2000 sccm) N2 (500 sccm) Vacuum system: Turbo pump: LEYBOLD MAG 2000 Load lock pump: EBARA AA10 Chamber pump: EBARA A30W AFFINITY PWG-060L-BE27CBD2 Chiller Power supply: 380 V, 60 Hz, 40 A 2003 vintage.
STS Multiplex ICP HR ist ein spezialisiertes Ätz- und Aschewerkzeug, mit dem Benutzer mehrere Substrate oder Wafer gleichzeitig bearbeiten können. Es ist einfach zu bedienen und bietet ein hervorragendes Maß an Gleichmäßigkeit, wenn es um die Verarbeitung einer Vielzahl von Arten von Substraten und Wafern geht. Das Gerät ist aus Edelstahl gefertigt und verfügt über eine beeindruckende 2-Mikron-Ätzgenauigkeit. Das computergesteuerte System bietet effiziente und präzise Ätzprozesse, die über die integrierten Rezepturen problemlos gesteuert werden können. Darüber hinaus bietet das System ein breites numerisches Spektrum an Rezepteinstellungen, die eine große Flexibilität bei der Verarbeitung verschiedener Materialarten ermöglichen. Die Hardware des Geräts integriert eine inerte Quarzkammer, die verbesserte Ätzergebnisse liefert und die Flexibilität des Ätzers erhöht. Dies, gepaart mit seiner EtchSlice™ Technologie, ermöglicht einen präzisen und wiederholbaren Ätzprozess, der optimiert ist, um mit einer Vielzahl von Rezepten, wie die, die verwenden Bake-n- Quench™ oder Metall-organische Vorläufer laufen. Das ICP HR verfügt zudem über eine dynamische Sweep-Steuerung, die eine schnelle Optimierung der Ätzraten ermöglicht. Das Gerät bietet auch eine hohe Toleranz für Schwankungen der Silikonätzraten, was seine Genauigkeit und Präzision erhöht. Schließlich sorgt die integrierte Umweltschutzschicht (EPL) des ICP HR dafür, dass alle Gefahrstoffe enthalten sind und das Gerät so umweltfreundlich ist. Dieses einfach zu bedienende Gerät hilft bei der Steuerung des Ätz- und Reinigungsprozesses, was zu einer qualitativ hochwertigen, wiederholbaren Ätzrate führt. Multiplex ICP HR ist eine großartige Ergänzung zu jeder Anlage und bietet ein zuverlässiges Werkzeug, mit dem das Produktionspersonal schnell und präzise eine Vielzahl von Substraten und Wafern ätzen und aschen kann. Es bietet eine große Kontrolle über den Ätzprozess sowie eine sichere und effiziente Möglichkeit, Gefahrstoffe zu reinigen.
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