Gebraucht STS Pegasus DRIE #293596360 zu verkaufen

STS Pegasus Deep Reactive Ion Etcher (DRIE) ist ein robuster, leistungsfähiger Produktionsätzer/Ascher, der in der Lage ist, tiefe reaktive Ionenätzprozesse (DRIE) zu liefern, um präzise Funktionen mit hohen vertikalen Seitenverhältnissen zu schaffen. Die Plasmaquelle des STS Pegasus DRIE Ätzers erzeugt hochenergetische Ionen, die präzise auf die Werkstückoberfläche gerichtet sind. Diese hochenergetischen Ionen werden verwendet, um die gezielten Bereiche eines Substrats zu ätzen, während das Graphitwandschild verwendet wird, um andere Bereiche vor dem Ätzprozess zu schützen. Kern der Spitzentechnologie von Pegasus DRIE ist eine Hochspannungsversorgung und eine leistungsstarke 2.45GHz Mikrowellen-Plasmaquelle. Seine fortschrittliche Quelle, speziell für DRIE-Prozesse entwickelt, produziert mehrere Ionenarten mit hoher Gasausnutzungseffizienz. Die Geräte werden unter Verwendung aller digitalen Controller mit ausgeklügelten Algorithmen für die Prozesssteuerung kombiniert gebaut, so dass Benutzer ihre Rezepte in Echtzeit überwachen und steuern können. Die Stromversorgung des STS Pegasus DRIE Ätzers wurde speziell entwickelt, um effiziente und wiederholbare Prozessrezepte mit außergewöhnlicher Genauigkeit bereitzustellen. Variablen wie Kammertemperatur, Druck und Leistung werden präzise innerhalb des Polymerbearbeitungsprotokolls verwaltet. Darüber hinaus ist der Pegasus DRIE Ätzer mit einem DCMS CoreShield ausgestattet, das eine Reihe spezifischer Sicherheitsmerkmale ist, die auch die Präzision des Ätzprozesses unterstützt. Dazu gehört ein Zweidruckdifferenzsystem, das den Druck zwischen Prozesskammer und Abgasleitung und automatischer Absperreinheit misst, die den Prozess stoppt, wenn sie eine zu hohe Druckdifferenz erkennt. STS Pegasus DRIE Ätzer ist gut geeignet für eine Vielzahl von Substraten wie Silizium, Quarz, Glas, Keramik und andere Materialien. Diese Multi-Substrat-Plattform bietet maximale Kompatibilität für verschiedene Produktdesigns. Der Ätzer unterstützt eine breite Palette von Funktionsgrößen und ist in der Lage, Ätzprofile sowie hohe Seitenverhältnisse fein zu steuern. Die gesamte Maschine ist flexibel genug, um eine Vielzahl von Anwendungen wie großflächige Substrate, kleine Flächensubstrate einschließlich Patches, Wafer und sogar harte nicht poröse Materialien wie Metalle und Glas zu bewältigen. Insgesamt ist Pegasus DRIE das zuverlässigste und fortschrittlichste Ätzwerkzeug für hohe Seitenverhältnisse, tiefe reaktive Ionenätzprozesse. Mit seiner fortschrittlichen Quelle, Stromversorgung und Sicherheitsfunktionen können Benutzer maximale Präzision und Genauigkeit mit ihren Prozessrezepten sowie zuverlässige, wiederholbare Ergebnisse erzielen.