Gebraucht STS Pro ICP #293605254 zu verkaufen

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Hersteller
STS
Modell
Pro ICP
ID: 293605254
Wafergröße: 6"
Advanced Oxide Etcher (AOE), 6" Inductively Coupling Plasma (ICP) Backside helium cooling 8-Pins clamp Lip seal Masks: Si, PR, Metals (Cr, Ti, Ni) Gases: C4F8, SF6, O2, H2, CF4, (2) Open gas slots Process pressure: 2-80 mT Substrate size: 6" Temperature range: Platen: -20°C to 120°C Walls: 100°C Lid: 120°C Materials etched: SiO2 Quartz Pyrex Fused silica Si3N4 Bulk silicon Capabilities: 2.5 µm on 8-10 µm TEOS Etch rate: >2000 A/min SiO2, >4:1 selectivity SiO2: PR Inter wafer: ±3% 5 µm on 3-10 µm SiO2 Etch rate: >3000 A/min SiO2, >7.5:1 selectivity SiO2: PR Inter wafer: ±2% Power supply: ADVANCED ENERGY Coil: 3000 W, 13.56 MHz ENI Platen: 1000 W, 13.56 MHz.
STS Pro ICP ist ein fortschrittlicher Ätzer/Ascher, der sich gut für ICP (Inductively Coupled Plasma) -Anwendungen eignet. Es ist fachmännisch darauf ausgelegt, präzise, effiziente und erweiterte Ätzfunktionen mit ultraschnellen Ätzzeiten und enger Kontrolle kritischer Prozessparameter bereitzustellen. Pro ICP verfügt über einen 12 „x 13“ (ca. 30,48 cm x 33,02 cm) aktiven Ätztisch mit modifiziertem Schlitzventilätzer zur Steuerung der Prozessgase und des Drucks der Ätzstufe. Der Ätztisch ist mit einer vollständigen Unteransicht-Kameraüberwachung ausgestattet, um eine präzise Steuerung des Prozesses zu ermöglichen. Ein zusätzliches Merkmal dieses Ätzers sind die „Bake-in“ -Fähigkeiten der Tischplatte, die eine thermische Prozesssteuerung für eine ganze Reihe von Ätzprozessen bietet. Das Herzstück von STS Pro ICP ist die HF-Generator- und ICP-Quellmontage. Diese Baugruppe umfasst auch das Lastabgleichsnetz und motorisierte leistungseinstellbare Kondensatoren zur präzisen und reproduzierbaren Steuerung der ICP-Quelle. Die Prozesskammer von Pro ICP besteht aus Titan, das eine dauerhafte und effektive Ätzumgebung bietet. Nach dem Einlegen des Wafers in die Kammer kann der Ätzvorgang durch einfaches Drücken einiger Tasten auf die Tischplatte eingeleitet werden. STS Pro ICP verfügt außerdem über eine Prozessgasversorgung mit Massenstromreglern, einen Methan/Stickstoff/Argon-Mix und einen variablen Frequenzantrieb, um die ICP-Quelle genau zu regulieren und mit der Last abzustimmen. Abschließend ist Pro ICP ein fortschrittlicher und vielseitiger Ätzer/Ascher, der sich gut für ICP (Inductively Coupled Plasma) -Anwendungen eignet. Sein robustes Design, seine präzise Steuerung und sein breites Spektrum an Ätzfunktionen machen es zu einer idealen Wahl für allgemeine und präzise Ätzanforderungen.
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