Gebraucht TEGAL 415 #9010610 zu verkaufen

TEGAL 415 ist ein Hochleistungs-Ätzer/Ascher, der verwendet wird, um eine Reihe von Ätz-/Ascheprozessen durchzuführen, die für die Herstellung von Halbleiterschaltungen und -bauelementen erforderlich sind. Dieser Ätzer/Ascher verfügt über mehrere einzigartige Attribute, die es ideal für eine Vielzahl von Halbleiterätz-/Ascheprozessen machen, insbesondere solche, die Nassätzen und Aschen beinhalten. Das herausragende Merkmal von 415 Ätzer/Ascher ist seine Fähigkeit, qualitativ hochwertige Ätz-/Ascheergebnisse mit einer Vielzahl von Substratmaterialien zu erzielen, darunter Metalle, Polysilizium, Quarz und GaN. Dies wird durch den Zusatz mehrerer spezialisierter Softwarepakete zur Steuerung des Prozesses ermöglicht. Diese Pakete ermöglichen es Benutzern, die Ätz-/Ascheparameter, wie Ätz-/Aschedruck und Timing, anzupassen, um die bestmöglichen Ergebnisse zu erzielen. Darüber hinaus verfügt TEGAL 415 über ein fortschrittliches System zur Temperaturregelung, das sicherstellt, dass alle Asche- und Ätzprozesse mit präzisen und konsistenten Ergebnissen abgeschlossen werden. 415 verfügt auch über eine hochmoderne Umweltkammer, die dazu beiträgt, die Temperatur konsistent zu halten und die optimalen Bedingungen für Ätz-/Ascheprozesse zu erhalten. Diese Kammer ist mit einer Vielzahl spezialisierter Sensoren ausgestattet, die die Umgebungsbedingungen in der Kammer überwachen und die Ätz-/Ascheparameter kontinuierlich anpassen, um bestmögliche Ergebnisse zu gewährleisten. Darüber hinaus ist die Umweltkammer korrosionsbeständig ausgebildet und in der Lage, in einer Vielzahl von unterschiedlichen Temperaturen über den normalen Bereich zu arbeiten. TEGAL 415 umfasst auch ein Gasversorgungssystem, das sicherstellt, dass Ätz-/Aschedruck und Gasstrom für jeden Prozess im optimalen Bereich gehalten werden. Dieses Gasversorgungssystem sorgt dafür, dass Ätz-/Ascheprozesse mit höchster Effizienz und Konsistenz durchgeführt werden können. 415 ist ein hochentwickelter Ätzer/Ascher, der entwickelt wurde, um die anspruchsvollsten Ätz-/Ascheprozesse mit Präzision und Genauigkeit abzuschließen. Seine umfangreichen Eigenschaften machen es zu einer idealen Wahl für eine Vielzahl von Anwendungen, von der Herstellung von Halbleiterbauelementen bis hin zu fortschrittlicher Forschung und Entwicklung.