Gebraucht TEGAL 415 #9187146 zu verkaufen

TEGAL 415 ist ein automatisierter Ascher, der von der TEGAL Corporation entwickelt wurde. Es ist eine komplette, eigenständige Ausrüstung, die Wafer-Düsenreinigungs-, Ätz- und Dünnschichtabscheidungsprozesse anbietet. 415 ist ein zuverlässiges, effizientes und kostengünstiges System, das sich für eine Vielzahl von Anwendungen, einschließlich Halbleiterherstellung, MEMS und optoelektronischen Bauelementen, bewährt hat. TEGAL 415 besteht aus einer automatisierten, robotergesteuerten Arbeitszelle, die Substrate bis 200 mm Durchmesser handhaben kann. Die Einheit ist mit einer Ladestation ausgestattet, wo das Substrat zunächst in die Maschine geladen und dann automatisch auf die Ätz- und Dünnschichtabscheideplattformen gelegt wird. Das Werkzeug ist zudem mit einem integrierten Controller ausgestattet, der eine präzise Steuerung des gesamten Prozesses ermöglicht und sicherstellt, dass jedes Substrat konsequent bearbeitet wird. 415 weist zwei unabhängige Ätzkammern auf. Die erste Kammer ist für die Düsenreinigung und Bildätzung optimiert, während die zweite Kammer für Korrosion, Oxidentfernung und Durchwaferätzen optimiert ist. Die Ätzkammern sind temperatur- und druckgeregelt und können prozesskritische Gleichmäßigkeit, Wiederholbarkeit und Genauigkeit erreichen. TEGAL 415 enthält auch eine Dünnschichtabscheidungsplattform. Diese Plattform ist in der Lage, hochzuverlässige Schichten mit geringer Oberflächenrauhigkeit herzustellen. Es ist mit Dreh- und Linearbewegungsstufen sowie zwei getrennten E-Strahlquellen zur Beschichtung der Substrate ausgestattet. Die Anlage ist auch in der Lage, mehrere Substrate gleichzeitig zu verarbeiten, was es zu einer ausgezeichneten Wahl für Produktionsmaßstäbe Studien macht. Insgesamt ist 415 ein zuverlässiger und kostengünstiger Ascher/Ätzer. Es ist in der Lage, eine Vielzahl von Anwendungen zu handhaben, einschließlich Halbleiterherstellung, MEMS und optoelektronische Bauelemente. Sein fortschrittlicher Controller sorgt für Präzision und Wiederholbarkeit bei der Verarbeitung jedes Substrats. Und seine zwei unabhängigen Ätzkammern und Dünnschichtabscheidungsplattform sind in der Lage, zuverlässige und konsistente Ergebnisse zu erzielen. Es ist eine ideale Lösung für jeden Halbleiterherstellungsprozess.