Gebraucht TEGAL 901e #33637 zu verkaufen
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ID: 33637
Wafergröße: 3" - 6"
Poly/Nitride Plasma etcher, cassette to cassette, 3"-6".
TEGAL 901e ist eine fortschrittliche Ätz- und Ascheausrüstung, die robuste und zuverlässige Ätzleistung für Trockenätzanwendungen bietet. Es eignet sich für eine breite Palette von Materialien, einschließlich Galliumarsenid (GaAs), SiGaAs, SiGaSb und Indiumphosphid (InP). Das System umfasst eine Vakuum-Plasma-Ätzkammer, eine Hochstrom-Plasmaquelle und einen vollautomatischen Roboter-Transferarm - alle in einem Paket integriert. TEGAL 901 E wurde entwickelt, um ultrapräzise Ätztiefe und Gleichmäßigkeit bei ausgezeichneter physikalischer Integrität der Maske zu liefern und nutzt einen gasausgewogenen Ätzprozess, der eine überlegene Senkrechte der geätzten Oberflächen gewährleistet. Darüber hinaus ist das Gerät in der Lage, Mikron-Präzision Abgrenzungslinien, die für die Herstellung von photoelektronischen Geräten wesentlich sind. Die Vakuumkammer von 901e verfügt über eine induktiv gekoppelte Plasmaquelle, die die Verarbeitungszeit erheblich reduziert und gleichzeitig eine hohe Verarbeitungsrate und ein zuverlässiges Substratergebnis liefert. 901 E ist mit einer aktiven Druck- und Temperaturregelmaschine ausgestattet, mit der der Benutzer gleichzeitig Ätzplasma und Umgebungstemperatur steuern kann. Es verfügt auch über einen Plasma-Monitor, mit dem sowohl Ätzraten als auch Temperaturen genau gemessen werden können. Der Roboterübertragungsarm von TEGAL 901e bietet eine vollautomatische Beladung und Übertragung von Substraten und verfügt über ein integriertes Antikollisionswerkzeug und einen Sicherheitshandler. Die Basis des Armes entspricht der branchenüblichen EPROM/EEPROM-Buchse, die ein einfaches und sicheres Be- und Entladen des Substrats ermöglicht. Darüber hinaus unterstützt TEGAL 901 E zahlreiche Prozessbedingungen, darunter Ätzgase und Druckeinstellungen, was es zu einer idealen Lösung für Produktions- und F & E-Anwendungen macht. Darüber hinaus ist es kompatibel mit einer Vielzahl von beliebten Ätzverfahren, wie reaktives Ionenätzen (RIE), tiefenreaktives Ionenätzen (DRIE), plasmaverbessertes Ätzen (PEE) und Plasmaätzen (PE). Alles in allem ist 901e ein Hochleistungs-Ätz- und -Ashing-Asset, das überlegenes Ätzen und Einheitlichkeit sowie eine hervorragende physische Integrität der Maske bietet. Es eignet sich für viele Trockenätzanwendungen und ist ein unschätzbares Werkzeug für die Produktion und F & E-Aktivitäten.
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