Gebraucht TEGAL 901e #68489 zu verkaufen

TEGAL 901e ist ein reaktiver Ionenätzer/ascher, ideal für den Einsatz in Prozessen, die anisotrope (vertikale) Ätz-/Ätz- und Ascheprozesse erfordern. TEGAL 901 E kann eine Vielzahl von Materialien ätzen, einschließlich Quarz, Siliziumoxid, Polysilizium, Aluminiumoxid, Galliumarsenid und Siliziumnitrid. Es wurde entwickelt, um hochpräzise und zuverlässig zu sein, so dass es eine gute Wahl für diejenigen, die einheitliche Ergebnisse bei minimaler Wartung suchen. 901e bietet eine Vielzahl von Prozessparametern und Rezepten. Es kann bei niedrigen und hohen Temperaturen geätzt werden, wobei die Ätzraten zwischen 1 und 20 Å/min liegen (je nach Anwendungsfall). Es ist in der Lage, sowohl Standard- als auch Tiefätzfähigkeiten bereitzustellen, wobei die maximale Substrattemperatur bis zu 500 ° C beträgt. Es ist auch mit einer Vielzahl von Endpunktoptionen ausgestattet, einschließlich Zeit, Dicke und Widerstand. 901 E ist zuverlässig und effizient und verwendet ein intelligentes Frequenzkontrollsystem, um Präzision und Wiederholbarkeit zu gewährleisten. Seine leistungsstarken Prozesssteuerungen sorgen für eine verbesserte Tiefe und Gleichmäßigkeit, während sein einstellbares Gasversorgungssystem höhere Prozessgeschwindigkeiten ermöglicht. Die in TEGAL 901e eingesetzte Pulsed Mode Technologie sorgt für kontrollierte reaktive Ionenätzbedingungen, was zu mehr Selektivität und höherem Durchsatz führt. TEGAL 901 E ist mit einer intuitiven grafischen Benutzeroberfläche ausgestattet, die eine einfache und schnelle Prozesseinrichtung ermöglicht. Es verfügt über eine Reihe von Funktionen zur Steigerung der Produktivität, einschließlich schnellerer Prozesseinrichtung, verbesserter Überwachung und Kontrolle sowie Unterstützung zur Prozessverbesserung. Seine fortschrittlichen Power Pulser und Spannungssteuerungssysteme bieten verbesserte Ätzzufriedenheit und Genauigkeit, und seine fortschrittlichen Sicherheitssysteme verhindern thermische Auslauf- und andere Unfallszenarien. 901e ist ein hochzuverlässiger und effizienter Plasmaätzer und Ascher, was es zu einer idealen Wahl für fortgeschrittene Halbleiterverarbeitungsanwendungen macht. Die intuitive Benutzeroberfläche in Kombination mit ihren vielseitigen Prozessfähigkeiten macht sie zu einer ausgezeichneten Wahl sowohl für den kommerziellen als auch für den Laboreinsatz. Mit seiner Zuverlässigkeit, Präzision und fortschrittlichen Sicherheitsprotokollen ist es eine ausgezeichnete Wahl für diejenigen, die zuverlässige Leistung und konsistente Ergebnisse verlangen.