Gebraucht TEGAL 901e #70080 zu verkaufen
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ID: 70080
Wafergröße: 4" - 6"
plasma etcher, 4"-6" capability
Silicon dioxide Plasma Etcher
Cassette to cassette
13.56 MHz ENI RF Generator, 1000W
Microprocessor control
Non-friction spatula wafer transport.
TEGAL 901e ist ein fortschrittlicher Ätzer, der speziell für den Einsatz in Halbleiteranwendungen entwickelt wurde. Es ist eine „Stand-alone“ -Ausrüstung, bestehend aus einer rotierenden Außen- und Innenraumkonstruktion, die einheitliche Verarbeitungsergebnisse liefert. Zu den Merkmalen gehören eine hohe Durchsatzleistung, Wafer-Handhabbarkeit von bis zu drei Einheiten, einheitliche Ätzergebnisse und überlegene Sauberkeit. Das System verfügt über einen integrierten programmierbaren Controller mit benutzerfreundlichen Funktionen und dynamischen interaktiven Displays. Eine intuitive grafische Benutzeroberfläche (GUI) ist verfügbar, um Parameter anzupassen und den Fortschritt jedes Prozesses zu überwachen. Die Software ermöglicht auch die Fernbedienung über eine direkte serielle Kommunikationsverbindung oder über das beliebte Fernbedienungsprotokoll (RCP), das speziell von der TEGAL Corporation entwickelt wurde. TEGAL 901 E verwendet direkte, indirekte oder kombinierte Plasmaquellen zur Ätz- oder Oberflächenbehandlung auf Halbleiterscheiben. Das Gerät verwendet eine Gas Control Unit (GCU), um die im Ätzprozess verwendeten Gase zu überwachen und zu steuern. Die GCU ist mit einem Gaskonzentrationsprofil programmiert, das bis zu 16 Prozessstufen unterstützen kann. Die Wafer werden horizontal in die Maschine gelegt und dann automatisch im Uhrzeigersinn oder entgegen dem Uhrzeigersinn mit einer programmierbaren Geschwindigkeit transportiert. Für jeden Waferabschnitt des Werkzeugs steht eine isolierte Plasmaquelle zur Verfügung, die für einen kontrollierteren Ionenbeschuss des Wafers sorgt, was zu überlegenen Ätzergebnissen führt. Das fortschrittliche Ätzkammerdesign von 901e führt zu überlegener Prozesskonsistenz, minimaler Partikelverschmutzung und maximalem Durchsatz. Die Ätzkammern werden mit gleichbleibender Temperatur druckgesteuert, wodurch eine gleichmäßige Ätzumgebung entsteht. 901 E asset bietet eine Vielzahl wiederholbarer Prozesse und Rezepte, die für die zukünftige Nutzung gespeichert werden können. Die Steuerung für TEGAL 901e basiert auf einem dreiachsigen Bewegungssteuerungsmodell mit integrierter PID-Schleifensteuerung und bietet eine optimale Ätzumgebung. Das Gerät verfügt auch über eine oszillierende Ätzoption, mit der die Gleichmäßigkeit von Teilen mit kreisförmigen Geometrien verbessert werden kann. TEGAL 901 E ist das ideale System zum Ätzen und zur Oberflächenbehandlung von Halbleiterscheiben. Seine benutzerfreundliche GUI, fortschrittliche Ätztechnologie und Flexibilität sind ideal für die Herstellung hochzuverlässiger Halbleiterbauelemente.
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