Gebraucht TEGAL 901e #75520 zu verkaufen
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ID: 75520
Wafergröße: 4"
Plasma Etcher, rebuilt Cassette to Cassette, Polysilicon / Silicon Nitride
Currently configured for 4" wafers
ENI 1000 Watt 13.56 MHz RF Generator
20 Process recipe capability
Non-friction spatula pick and place wafer transport
Leybold D65 oxygen service pump
Tegal Closed loop temperature controller
Chart recorder for endpoint trace monitoring
DEC Monitor and keyboard
Manuals included
Facility requirements
200-240 VAC selectable (50/60hz) single phase
RF Generator 200-240 VAC selectable (plugs into 901e)
Monitor 115VAC (plugs into 901e)
Chart Recorder 115VAC (plugs into 901e)
Vacuum pump 200-230 VAC 3-phase
Temperature controller 115 VAC
CDA or N2 regulated to 80 +/- 5 psi
N2 regulated 15 to 30 psi
Process gas’s regulated to 15+/- 5psig (Regulators currently installed on table)
O2 clean regulated to 10+/- 5psi
901e Vacuum pump connection KF-40 Flange
901e Cabinet exhaust connection 4” 100 cfm.
TEGAL 901e ist ein Benchtop Plasma Asher/Etcher, der zu einem wichtigen Werkzeug in der Halbleiterindustrie geworden ist. TEGAL 901 E wurde von der TEGAL Corporation entwickelt und ist eine hocheffiziente und zuverlässige Ausrüstung, die für eine Vielzahl von Ätz- und Ascheprozessen eingesetzt werden kann. 901e besteht aus einer Basiseinheit, Stromversorgung, Controller, einstellbarem Probenhalter und einer Kammer. Die Basiseinheit von 901 E ist aus starrer Aluminiumlegierung gefertigt und umfasst eine obere Platte und zwei seitliche Zugangstüren. Die Stromversorgung des Systems nutzt eine Spannung von bis zu 1,000V und einen maximalen Strom von 1.000 mA. Die Stromversorgung kann so konfiguriert werden, dass verschiedene Leistungsprofile bereitgestellt werden, wodurch TEGAL 901e die Flexibilität bietet, eine Reihe von Asche- und Ätzprozessen durchzuführen. Der Controller von TEGAL 901 E ermöglicht eine einfache Benutzeroberfläche und Kontrolle über das Gerät mit einer intuitiven grafischen Benutzeroberfläche und Diagnoseinstrumenten. Der Probenhalter ist einstellbar und ermöglicht das Einbringen einer Vielzahl von Probenmaterialien. Die Kammer ermöglicht eine inerte Atmosphäre, die eine maximale Kontrolle über die Prozessumgebung ermöglicht. 901e kann verwendet werden, um oder als beide Materialoberflächen einschließlich dünner Filme, Metalle, Polymere, Halbleiter und Dielektrika zu ätzen. Die Maschine bietet schnelle Prozesszeiten, ermöglicht das Ätzen oder Aschen von Proben in Sekunden bis zu wenigen Minuten und zeigt keine Materialschäden nach Fertigstellung. Abschließend ist 901 E ein multifunktionaler Ascher und Ätzer, der hocheffizient und zuverlässig ist. Mit der Fähigkeit, die Prozessumgebung und die schnellen Prozesszeiten genau zu steuern, ist TEGAL 901e ein wichtiges Werkzeug für die Halbleiterindustrie.
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