Gebraucht TEGAL 901e #9290041 zu verkaufen

TEGAL 901e ist eine Ätz-/Aschemaschine, die für das hochdichte Plasma-geätzte Ätzen und Aschen von Halbleitern, MEMS und der Herstellung von Verbundbauelementen entwickelt wurde. Das System bietet hohe Ätzraten und Gleichmäßigkeit bei extrem geringer Defektivität und hoher Selektivität zum Photolack. Es wurde entwickelt, um präzise Ätztiefenkontrolle, schnelle und wiederholbare Ätzraten und geringe Schäden durch schnelle Rampen- und Tränkprozesse bereitzustellen. TEGAL 901 E-Einheit bietet verbesserte Oberflächenplanarisierung mit einer Vielzahl von Ätzchemien, einschließlich reaktives isotropes Ätzen, Metallätzen (einschließlich Kupferätzen) und Isolatorätzen und einer Vielzahl von Ätzchemien. Zu den einzigartigen Konstruktionsmerkmalen gehören ein Endpunktmodul mit hoher Dichte, eine doppelte Waferbelastung und eine Option für die Lastsperre mit Hochleistungsquarzzzonen. Die Maschine bietet auch erweiterte optische Endpunkterkennung, automatisierte Waferaustauschfunktionen und Driftkompensation. 901e nutzt elektromagnetisch induzierte Plasmasources und plasmagestütztes Ätzen mit hoher Dichte. Dazu gehören Elektronenzyklotronresonanz (ECR) und induktiv gekoppelte Plasma (ICP) -Konfigurationen, die beide hohe Ätzraten, geringe Substratschäden und eine hohe Steuerbarkeit über Ätztiefe bieten. Die Plasmaquellen haben Niederdruck und hohe Dichte, mit einem Bereich von HF-Leistung von 10 bis 150 W und Betriebsfrequenzen von 95 kHz bis 13,56 MHz. 901 E bietet mehrere Ätzchemikalien mit voller Kontrolle über Gasflussrate, Druck und Lieferung sowie Wafer-Verweilzeit. Für vordefinierte Rezepte hat es die Fähigkeit, jeden Ätzschritt für Gleichmäßigkeit und Reproduzierbarkeit zu registrieren. Das Tool unterstützt auch die automatisierte Bearbeitung und Endpunkterkennung mit fortschrittlichen optischen und infraroten Endpunkterkennungssystemen, die eine effiziente und zuverlässige Verarbeitung ermöglichen. Die Anlage verfügt über ein hochintegriertes Design und effiziente Materialhandhabungslösungen, die eine einfache Handhabung von Wafern ermöglichen. Es ist auch in der Lage, bis zu drei Reaktorkammern gleichzeitig zu verwalten, und seine erweiterten Sicherheitsfunktionen umfassen ein Deckel-Verriegelungsmodell, eine Spülschaltung und einen Matchstick-Detektor. Seine benutzerfreundliche grafische Benutzeroberfläche macht es einfach zu bedienen und ermöglicht eine verbesserte Steuerung und Überwachung von Ätz- und Ascheprozessen. Insgesamt bietet TEGAL 901e eine zuverlässige und kostengünstige Lösung für Halbleiterätz- und -veraschungsprozesse. Seine fortschrittliche Ätzchemie, hohe Ätzraten, konsistente Gleichmäßigkeit, geringe Defektivität und hohe Selektivität gegenüber Photoresist machen es zu einer idealen Wahl für Anwendungen in der Mikroelektronik und MEMS-Herstellung.