Gebraucht TEGAL 901e #9381612 zu verkaufen
URL erfolgreich kopiert!
Tippen Sie auf Zoom
ID: 9381612
Wafergröße: 3"-6"
Weinlese: 2001
Plasma etcher, 3"-6", parts machine
P/N: CS900-11590
(4) Gas input lines
P/N: 99-172-003/F IMN-3
Chuck, P/N: CW1109-41101
P/N: 99-142-003/A DIS-3
RF Delivery, P/N: CR1124-01002
P/N: 99-173-008/C RFG-8
P/N: 99-128-006
Gas delivery blank, P/N: CG1145-02001
RCTN Chamber, P/N: CC1106-01302
P/N: 39-342-001
Press vacuum with ATM sensor, P/N: CG1146-01302
Spatula Dr, 4", P/N: CW1078-40401
P/N: 99-207-004/K MBE-4
P/N: 80-095-278
P/N: 26-041-039C
Missing parts:
Control computer
Capacitance manometer
Mass flow controllers
RF Match unit
Vacuum pump
Manuals
Cords / Cables
Power supply: 200/208 V, Single Phase, 30 A, 50/60 Hz
2001 vintage.
TEGAL 901e ist eine sehr leistungsstarke Ätz-/Ascheausrüstung, die für überlegene Leistung in Waferbearbeitungsvorgängen entwickelt wurde. Dieses Ätz-/Aschersystem ist eine vollautomatische Hochdurchsatzeinheit mit einer grafischen Schnittstelle und eingebettetem Computer, der Prozesssteuerungs- und Analysefunktionen in einem modularen Paket bereitstellt. Das Gerät bietet auch eine Vielzahl von Prozeßätzen und Aschen von Substraten wie Silizium, FR4, Germanium und GaAs. TEGAL 901 E ist mit einer 120-mm-Ladekammer und einem Lastanschluss ausgestattet, der bis zu 6 Wafer pro Charge aufnehmen kann und eine schnelle und effiziente Waferbearbeitung ermöglicht. Darüber hinaus bietet die Kammer ein umfangreiches Angebot an Optionen, darunter eine Sublimationsheizstufe, eine Probenbesehnungsmaschine und einen Massenstromregler. Das Probenbetrachtungswerkzeug in Kombination mit der Panoramabildung sorgt für eine präzise Positionierung der Probe beim Ätzen und Aschen. Die Plasmaquelle von 901e basiert auf der Mehrfrequenz-ECR (electron cyclotron resonance) -Technologie. Es ist in der Lage, eine HF-Leistung zu erzeugen, die von niedrig bis hoch reicht und eine Vielzahl von Ätz- und Aschebedingungen ermöglicht. Die Plasmaquelle ist zudem mit einem Schnellzyklusmechanismus für kürzere Prozesszykluszeiten ausgestattet. 901 E ist auch so konzipiert, um sicher und energieeffizient zu sein, so dass es ideal für den Einsatz in Forschung, Pilotlinie und industriellen Anwendungen. TEGAL 901e nutzt die vollautomatische Wafer-Handhabung und die grafische Benutzeroberfläche und vereinfacht Ätz- und Ashing-Prozesse, indem Benutzer Wafer-Maps und Programmabläufe automatisch drucken können. Es ermöglicht es Benutzern, Ätzparameter einschließlich Frequenz und Leistung, Temperatur, Druck und Gaszusammensetzung genau zu steuern. Darüber hinaus können Anwender mit der Software der Maschine den Prozessfortschritt leicht überwachen und Ergebnisse nach dem Prozess analysieren, um sicherzustellen, dass die Ergebnisse zuverlässig, wiederholbar und konsistent sind. TEGAL 901 E bietet unseren Kunden ein zuverlässiges, leistungsstarkes Ätz-/Aschewerkzeug, das überlegene Leistung in der Waferbearbeitung und Langzeitstabilität während der Laufzeit liefert. Das kompakte Design und die intuitive Benutzeroberfläche machen die Waferbearbeitung einfacher und effizienter. Darüber hinaus ermöglicht die Fähigkeit des Modells, Prozessparameter zu identifizieren und zu überwachen, es Anwendern, Prozessbedingungen genau zu verwalten und die Produktqualität zu erhalten.
Es liegen noch keine Bewertungen vor