Gebraucht TEGAL 981 #9159791 zu verkaufen
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ID: 9159791
Wafergröße: 8"
Etcher, 8"
Process: Nitride
Single chamber
Silicon nitride
Etcher
Chiller
Pump
Hazardous gases utilized: Oxygen (O2)
Chem class: Oxidant
Non-hazardous gases utilized / Chem class / Waste stream:
CDA / Non-flammable / Recyclable
Nitrogen (N2) / Inert / Recyclable
Helium (He) / Inert / Recyclable
Sulfur hexafluoride (SF6) / Inert / Recyclable
Carbon Tetrafluoride (CF4) / Inert / Recyclable
Non-hazardous liquids utilized:
Water process
Chem class: Recyclable
Waste stream: Recyclable
Mechanical systems utilized:
Acid exhaust (PES)
Chem class: Corrosive
Waste stream: Corrosive waste.
TEGAL 981 ist ein fortschrittlicher Ätzer/Ascher für die Nanoproduktionsindustrie. Es ist speziell für das Präzisionsätzen und Aschen von mikroelektronischen Materialien unter Verwendung fortschrittlicher Plasmaerzeugungstechniken konzipiert. 981 bietet mit seiner Kombination aus Deep Reactive Ion Etching (DRIE) und Inductively Coupled Plasma (ICP) ein schnelles und zuverlässiges Ätzen von Sub-45nm-Auflösungsfunktionen. TEGAL 981 ist mit einer breiten Palette von Prozesskammern ausgestattet, die eine breite Palette von Ätz- und Aschetechniken und eine Vielzahl von Materialien, einschließlich Silizium, Glas und Keramik, ermöglichen. Es ist mit einem 13 cm langen Pumpsystem, RIE- und ICP-Kammern sowie einer Vakuum-Turbo-Molekularpumpe ausgestattet. Dies ermöglicht die präzise Steuerung von Ätzprozessen mit der Fähigkeit, Präzision auf Nanometerniveau zu erreichen. Das System ist zudem mit zusätzlichen Sensoren und Monitoren ausgestattet, die Regeleinstellungen und Optimierungen in Echtzeit ermöglichen, während die eingebauten Sicherheitsmechanismen eine extrem geringe Verschmutzung gewährleisten. Eines der beeindruckendsten Merkmale von 981 ist seine Ätzgleichförmigkeit. Mit seiner Kombination aus ICP- und DRIE-Fähigkeiten kann er Schichten mit einer Dickengleichmäßigkeit von bis zu 1% ätzen. Damit eignet es sich ideal zum Ätzen von Materialien von Metallschichten bis hin zu Isolatoren und Metalloxiden. Es ist auch in der Lage, eine sehr große Ätztiefe von bis zu 500um bereitzustellen, so dass es für Anwendungen mit hohem Seitenverhältnis geeignet ist. TEGAL 981 bietet zudem einen kostengünstigen Betrieb im Vergleich zu anderen Ätzern, da mehrere Werkstücke gleichzeitig bearbeitet werden können. Dies kann zu erheblichen Kosteneinsparungen bei reduzierten Materialkosten sowie Arbeitskosten führen. Darüber hinaus verfügt das System über eine Reihe fortschrittlicher Funktionen, die eine größere Flexibilität beim Ätzen komplexer Formen und Funktionen ermöglichen, einschließlich der Kompatibilität mit einer Vielzahl von CAD-Programmen. Dies macht es zu einer idealen Wahl für jeden Bedarf an Nanoproduktion.
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