Gebraucht TEGAL Chamber for 415 Plasma asher #293661204 zu verkaufen

TEGAL-Kammer für 415 Plasmaascher ist eine fortschrittliche Ätz-/Aschetechnologie, die in der Halbleiterproduktion und -forschung eingesetzt wird. Der 415 Plasma Asher ermöglicht schnelle Ätz- und Ascheprozesse in einer Sauerstoff- oder Prozessgasumgebung mit präziser Temperaturregelung. Die Kammer hat eine sehr geringe Stellfläche und ist für einfache Bedienung ausgelegt. Es hat einen Edelstahl-Innenraum und eine spezielle Tungsten Interlocking Chamber Kammerdesign für verbesserte Gleichmäßigkeit der Prozessgasverteilung. Die Kammer ist mit modernsten Sicherheitsmerkmalen ausgestattet, wie: Sicherheitsverriegelungen, ein Doppelkammerdruckmonitor und Sicherheitsabschaltmagnetventile, um einen sicheren Betrieb zu gewährleisten. Die Kammer ist mit einem niedervolumigen, spitzen-, mittel- und ultraschnellen HF-Generator ausgestattet, der eine Vielzahl von Betriebsbedingungen ermöglicht. Es liefert hochgenaue, wiederholbare Ätz- und Ascheergebnisse mit niedrigen Durchflussraten bis 400 mmHg. Die erweiterte Bewegungssteuereinrichtung der Kammer sorgt für maximale Prozessgleichförmigkeit, indem die Position der Probe genau kontrolliert wird. Ein adaptives gesteuertes durchlässiges Filtersystem hilft, saubere Kammeroberflächen aufrechtzuerhalten und Verunreinigungen geladener Partikel zu verhindern. TEGAL Plasma Asher hat eine große Kammerkapazität und kann Prozessplattengrößen bis zu 244 mm (quadratisch oder rechteckig) handhaben. Es verfügt außerdem über eine digitale Gasdrucksteuerung, die zur Begrenzung der Verschmutzung von Partikeln in der Luft beiträgt und einen sehr präzisen Ätzprozess ermöglicht. Die Kammer ist mit einer hochmodernen Heizmaschine abgedeckt, die schnell auf Temperaturänderungen reagiert. Der 415 Plasma Asher wurde entwickelt, um durch die Einhaltung kundenspezifischer Prozessparameter eine konsistente Leistung und Wiederholbarkeit zu gewährleisten. Es ist einfach zu bedienen und zu warten und soll die Produktivität erhöhen und die Kosten im Vergleich zu bestehenden Ätz-/Veraschungstechnologien reduzieren. Es sorgt für hochwertige Wafer und maximiert den Ertrag. Die fortschrittlichen Sicherheitsmerkmale und das Bewegungssteuerungswerkzeug machen es zu einem zuverlässigen Kapital für Ätz- und Ascheprozesse.