Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON 308 SCCM #9266666 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON 308 SCCM ist ein Modell von Ätzer/Ascher, das entworfen ist, um Filme von Halbleiteroberflächen zu ätzen oder zu aschen. Diese Maschine verwendet einen All-in-One-Prozess der Vakuumabscheidung, Plasmaätzen und chemischen Reinigung. Es ist in der Lage, bis zu 30 Einzelwafer zu verarbeiten und bietet überlegene Wafer-zu-Wafer-Gleichmäßigkeit bei vernachlässigbarem Oxidrückstand. TEL 308 SCCM Ätzer/Ascher verfügt über eine Hochgeschwindigkeits-Prozesskammer und automatisierte Steuerungsfähigkeit, die einen hohen Durchsatz und eine wiederholbare Prozesssteuerung ermöglicht. Diese Maschine verwendet hochzuverlässige robuste Gaskupplungszufuhranschlüsse und Hochleistungs-Plasmaventile, um zuverlässige und wiederholbare Prozesse bereitzustellen. Der automatische Test- und Teach-Modus ermöglicht es dem Bediener, einen gewünschten Prozess aus einem Standardrezept und/oder einer visuellen Bestätigung des Prozesses zu erstellen. Der Prozess kann mit mehreren unabhängigen Größen gesteuert werden, einschließlich der HF-Leistung, Druck, Durchflussraten und Plasmazusammensetzung. Die Maschine ist mit einem 10 kW HF-Generator mit Leistungsabstimmungsmöglichkeiten zum Ätzen und Aschen ausgestattet. Dieser Generator ist so konzipiert, dass er auch unter rauen Betriebsbedingungen und schwankender Gasversorgung maximale Prozessfähigkeit und Stabilität bietet. TOKYO ELECTRON 308 SCCM Ätzer/Ascher ist weiter mit dualen Anregungsplasmaquellen konfiguriert, die eine gleichmäßige Plasmadichte bieten und den Bereich der verfügbaren Ätzprozesse erweitern. Diese Funktion reduziert auch das Risiko von Plasmainstabilitäten, die Prozessausbeute und Qualität begrenzen können. Die High-End-Sicherheitsfunktionen schützen den Bediener vor potenziellen Gefahren. Zusammenfassend ist 308 SCCM ein Ätzer/Ascher, der für den Einsatz in der Halbleiterherstellung entwickelt wurde. Es bietet eine Reihe von Funktionen, darunter einen 10-kW-HF-Generator mit Tuning-Fähigkeiten, Dual-Anregungs-Plasmaquellen, automatisierte Prozesssteuerung und eine robuste Gaskupplung Lieferanschlüsse. Diese Maschine ist sehr zuverlässig und liefert hohe Durchsatzraten, konsistente Wafer-zu-Wafer-Gleichmäßigkeit und überlegene Prozessergebnisse.