Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON 580 LC #62133 zu verkaufen

ID: 62133
Wafergröße: 6"
RIE etcher, 6".
TEL/TOKYO ELECTRON 580 LC Asher ist eine mittelgroße Ausrüstung zum Ätzen oder Aschen von Filmen oder anderen dünnen Proben für die Anwendung in den unterschiedlichsten Prozessen. Es ist ein Gasquellenätzer, der Sauerstoff oder andere Gase verwendet, um empfindliche Filme oder ähnliche Produkte zu ätzen. Das innovative System bietet ein Volumen von ca. 11 Litern und verfügt über ein kreisförmiges Probendesign. Dies macht es ideal für eine Vielzahl von Anwendungen, wie Nanoimprint Lithographie (NIL) und andere dünne Filme sowie Musteranwendungen. Die Einheit ist in einer vertikalen Struktur mit einer dünneren oberen Abdeckung zur Erhöhung der thermischen Zykluszeiten und einer dickeren unteren Abdeckung zur Unterstützung einer höheren mechanischen Stabilität ausgelegt. Die Maschine nutzt auch einen Hochgeschwindigkeitsgasstrom in der oberen Kammer und ist mit einem niedrigen Druck in der unteren Kammer ausgebildet. Diese Kombination liefert einen niedrigen Druck und die Hochgeschwindigkeitsgasumgebung zum schnellen Ätzen von Filmen und anderen dünnen Proben. Der Ätzer/Ascher ist mit einem integrierten Display zur Überwachung und Steuerung des Prozesses des Ätzens/Aschens von Folien oder ähnlichen Produkten ausgestattet. Dazu gehört ein LCD-Display, das ein zeitabhängiges Profil des Prozesses zeigt, einschließlich Details wie Druck, Temperatur und Strom. Das Tool integriert sich auch in verschiedene externe Geräte, wie Computer, um Datenexport und -analyse zu erleichtern. Darüber hinaus verfügt die Anlage über eine Reihe von Sicherheitsfunktionen, wie Alarme und LED-Anzeigen, die die Betreiber auf mögliche Probleme im Zusammenhang mit dem Ätzprozess aufmerksam machen. TEL 580 LC Asher ist ein zuverlässiges und vielseitiges Modell zum Ätzen oder Aschen einer Vielzahl von dünnen Folien oder ähnlichen Produkten. Es ist eine sichere, effiziente und hochpräzise Ausrüstung, die für eine Vielzahl von Anwendungen verwendet werden kann, einschließlich Nanoimprint Lithographie (NIL) und Musterung. Dieses System eignet sich sowohl für Labor- als auch für Produktionsumgebungen und ist eine gute Wahl für jedes Projekt, das Präzision und Zuverlässigkeit erfordert.
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