Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON 5K5499 #9148403 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON 5K5499 ist ein hochentwickelter Ätzer/Ascher bietet eine kostengünstige Lösung für Prozessingenieure. Es verfügt über eine vollautomatische Kammer und bietet Platz für bis zu zwei 300mm/12 "-Wafer zum Ätzen oder Aschen. Das Gerät kombiniert eine präzise Temperaturregelung und eine breite Palette von Durchflussoptionen mit der zugrunde liegenden proprietären PECVD/Plasmaquelle. Die Kombination aus fortschrittlichen Gaseinspritztechnologien und ausgeklügelter Hard- und Software sorgt für höchste Prozesskonsistenz. Erstens bietet dieser Ascher/Ätzer eine Reihe höherer Leistung durch verbesserte Präzisionsautomatisierung. Das Instrument ist zudem in der Lage, bis zu zwei Prozesse automatisiert zu verwalten, was eine optimale Effizienz und höhere Erträge ermöglicht. TEL 5K5499 bietet eine breite Palette von Prozessoptionen, die auf der Grundlage der Anforderungen des Verfahrenstechnikers angepasst werden können. Diese Prozesse umfassen Ätz-, Asche-, CVD- und verschiedene andere Spezialprozesse. Das hochautomatisierte System umfasst programmierbare Gas-, Zeit- und Temperaturparameter. Der Temperaturbereich liegt zwischen 100 und 400 ° C und der maximale Durchfluss beträgt 600 sccm. Dieses Mehrzweckinstrument bietet auch zwei Betriebsarten - einen manuellen Modus und einen automatischen Modus für den Betrieb mehrerer Prozesse. Zusätzlich behält dieses Instrument bei der Verarbeitung die gewünschten Prozessbedingungen für die besten Prozessergebnisse bei. Das Instrument verfügt über ein intelligentes Datenmanagementsystem, das eine einfache Bedienerschnittstelle und Prozessüberwachung ermöglicht. TOKYO ELECTRON 5K5499 läuft von Windows-Betriebssystemen und enthält ein 12,1 "farbiges LCD-Panel zur Anzeige von Prozessdaten. Das System beinhaltet auch manuelle Stand-Alone-Software zur intereaktiven Prozessausführung und -steuerung. Die manuelle Stand-Alone-Software umfasst eine breite Palette von Funktionen zur Überwachung und Verwaltung von Prozessbedingungen. 5K5499 wurde entwickelt, um die Prozesseffizienz zu erhöhen, Schrottverluste zu minimieren und Prozessstabilität und Wiederholbarkeit zu gewährleisten. Es ist mit einer PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) Quelle ausgestattet, um die höchste Qualität der Ätz- und Ascheergebnisse zu gewährleisten. Das Gerät verfügt über eine proprietäre Benutzeroberfläche und bietet umfassende Funktionen zur Datenverwaltung, Prozessüberwachung und Prozesssteuerung. Aufgrund der fortschrittlichen Funktionen des Instruments bietet es zuverlässige und konsistente Ergebnisse und kann die Anforderungen des fortschrittlichsten Prozessingenieurs erfüllen.