Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Chambers for SCCM #293602570 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Chambers for SCCM sind ein fortschrittliches Ätz- und Aschersystem, ideal für die Präzisionsbearbeitung von Halbleitersubstraten. Die TEL/TOK-Kammern bestehen aus Nassätzen und Trockenaschen und sind so konzipiert, dass sie höchste Kontrolle und Genauigkeit bieten, die Ertragsraten verbessern und die Durchsatzleistung maximieren. Die Kammern bestehen aus einer Edelstahl-Vakuumkammer mit separaten Kammerkomponenten, die eine genaue Temperatur- und Prozesskontrolle ermöglichen und eine überlegene Gleichmäßigkeit bieten. Panasonic Ätz- und Aschesysteme liefern zuverlässige, wiederholbare Ergebnisse bei geringen Substratschäden. Die Kammern sind bis zu 6 "breit einstellbar und passen bestimmte Bedingungen wie Kammerdruck, Temperatur und Druck während des gesamten Ätz-/Ascheprozesses an, um maximale Kontrolle und Ergebnisse zu gewährleisten. Um Genauigkeit und Gleichmäßigkeit zu gewährleisten, verfügen die Kammern über innovative Technologien wie gleichmäßige Gaszufuhr und Ablationsenergie - einschließlich einer Gasdiffusionsplatte, die einen präzisen Gasfluss ermöglicht. Es steht auch ein niederdruckentonisiertes (DI) Wasserspray zur Verfügung, das hilft, einen genauen Zieldruck in der Kammer aufrechtzuerhalten. Dies wiederum hilft, den Partikelaufbau auf dem Substrat zu eliminieren und eine präzise Ätzung, Asche und Verarbeitung zu gewährleisten. Darüber hinaus weisen die Kammern eine abgedichtete Elektrodenstruktur auf, die zur Aufnahme des Naßätzprozesses ausgelegt ist und einen niedrigen Druck und eine präzise, gleichmäßige Ätzung ermöglicht. Dies hilft, etwaige Ätzinkonsistenzen zu minimieren, was zu verringerten Defekten führt. Das Design hilft auch, hohen Durchsatz zu fördern und Zykluszeit zu reduzieren. Mit langlebiger Konstruktion, ausgezeichneter Temperatur- und Prozesskontrollgenauigkeit, innovativen Technologien und einer äußerst zuverlässigen und wiederholbaren Leistung sind TOKYO ELECTRON/TOK TEL Kammern für SCCM der ideale Ätzer und Ascher für hochmoderne Halbleitersubstrate, die die Ausbeute verbessern und die Durchsatzleistung maximieren.