Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Formula-1S-H #293647205 zu verkaufen

ID: 293647205
Weinlese: 2010
Diffusion furnace 2010 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Formula-1S-H ist ein Ätz-/Ascher-Gerät, das speziell für die Halbleiterverarbeitung entwickelt wurde. TEL Formula-1S-H ist ein direkter Heizungsätzer/Ascher mit einem einzigartigen TEL original gepulsten CO2-Lasersystem. Die hohe Leistung und der hocheffiziente Laser sorgen dafür, dass die Ätzrate hoch und die Kristallschäden minimal sind. TOKYO ELECTRON Formula-1S-H verfügt zudem über ein hochpräzises Temperaturregelungssystem, das nicht nur eine gleichmäßige Abscheidung dünner Filme auf dem Substrat gewährleistet, sondern auch ungleichmäßige Wärmeübertragung eliminiert und ein konsistentes Ätzergebnis gewährleistet. Formula-1S-H verfügt auch über fortschrittliche Temperaturregelung und Kammerdesign, um genaue und konsistente Glüh- und Ätzprozesse zu gewährleisten. Die Temperatur der Glüh- und Ätzprozesse kann präzise eingestellt werden und die Kammerkonstruktion minimiert die thermische Übertragung und ermöglicht effiziente Glüh- und Ätzprozesse. Der Temperaturbereich kann leicht eingestellt und die Kammerhöhe auf die optimale Ätzhöhe eingestellt werden. TEL/TOKYO ELECTRON Formula-1S-H verfügt auch über ein spezielles CO2-Lasersystem mit einer Reihe von Laserparametern und Laserleistungseinstellungen, so dass Benutzer den Prozess für ihre gewünschte Anwendung optimieren können. Die Laserparameter sind je nach Anwendung einstellbar, so dass Anwender präzise Ätzeigenschaften erzielen können. Die einstellbaren Lasereinstellungen sorgen dafür, dass der Ätzprozess optimiert werden kann, um ein präzises Ätztiefen- und Tiefenprofil zu erreichen. TEL Formula-1S-H verfügt zudem über eine patentierte CVD-Schichtwachstumstechnologie, die die präzise Bildung dünner Schichten ermöglicht. Die CVD-Schichtwachstumstechnologie ist ein einstufiger Prozess, der die Verarbeitungszeit reduziert, den Durchsatz erhöht und die Anzahl der Prozessschritte reduziert. Die CVD-Schichtwachstumstechnologie ist mit vielen verschiedenen Materialien wie III-V-Verbindungen, Lithiumniobat und Bornitrid-Materialien kompatibel. Insgesamt ist TOKYO ELECTRON Formula-1S-H eine fortschrittliche Ätz-/Ascher-Ausrüstung, die speziell für die Halbleiterverarbeitung entwickelt wurde. Die hohe Leistung und hocheffiziente Laser sorgt dafür, dass die Ätzrate hoch ist und bietet eine präzise Temperaturregelung und Kammerdesign, so dass Benutzer eine gleichmäßige Abscheidung von dünnen Schichten zu erreichen. Die einstellbaren Lasereinstellungen sorgen dafür, dass der Ätzprozess optimiert werden kann, um präzise Ätzeigenschaften zu erzielen, und die CVD-Schichtwachstumstechnologie bietet eine einstufige Verarbeitung, um die Bearbeitungszeit zu reduzieren und den Durchsatz zu erhöhen.
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