Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Formula-1S-H #293654963 zu verkaufen

ID: 293654963
Weinlese: 2005
Diffusion furnace Control system Heater temperature: 600°C-900°C Load port FIMS Wafer transfer Boat elevator / Seal cap rotation Auto shutter Heater model N2 Load lock Boat operation Process: LPCVD Si SEMI STD-Notch, 12" Furnace temperature controller: M780 HTR Power box Carrier transfer Mechanical driver Exhaust box Front and rear upper cover Final valve box Gas flow chart O2 Analyzer Hard Disk Drive (HDD) Does not include HCT User interface: MMI and gas flowchart: Gas box and front operation panel installed Pressure display Unit: Mpa / Torr Carrier type: FOUP / 25slots SEMI STD Fork meterial: Al203 and PEEK W/T Type: 1+4 Edge grip 16-Carrier stage capacity Wafer notch aligner RCU UPS Power distribution system: 3-Phase connection type: Star connection Single-Phase connection: Grounded Single-Phase voltage Gas distribution system: FUJIKIN Integrated Gas System (IGS) IGS Final filter, regulator: MFC Z500 Type MKS Capacitance manometer vacuum gage - press monitor (133 Kpa) Power supply: 400 VAC, 3 Phase, 50/60 Hz 2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Formula-1S-H ist ein Ätzer/Ascher für Anwendungen, bei denen ein schneller, präziser und feiner Ätzprozess erforderlich ist. Das Gerät verwendet eine Kombination aus einer Plasmaquelle, Ätzgas, kontrollierter Leistung und Hochfrequenz (HF) elektrischer Leistung, um ein perfektes Ätzprofil zu schaffen. Der Ätzprozess beginnt damit, ein sauberes und exakt planares Substrat zu gewährleisten. Dadurch wird sichergestellt, daß der Ätzprozeß zu gleichmäßigen Ätzergebnissen im Substrat führt. Anschließend wird das Ätzgas in die Systemkammer eingespritzt, die durch einen unabhängigen HF-Antennenabschnitt vom Substrat getrennt ist. Die Einheit wendet dann HF-Energie auf die Kammer an und erzeugt ein Plasma aus geladenen Partikeln und reaktiven Spezies, die mit dem Substrat interagieren. Die Ätzgeschwindigkeit wird dann durch eine Kombination von Parametern wie dem Ätzbereich, der Strömungsgeschwindigkeit des Ätzgases und der Leistungsintensität gesteuert. TEL Formula-1S-H ist mit einer Präzisions-Ätzkammer ausgestattet, die sich zum Ätzen von HAR-Strukturen eignet und gleichzeitig ein niedriges vertikales Erosionsprofil gewährleistet. Dadurch können auch komplizierteste dreidimensionale Strukturen mit hoher Genauigkeit definiert werden. Darüber hinaus verfügt die Maschine über eine Vielzahl von benutzerfreundlichen Funktionen, wie automatische Wafererkennung, ein bordeigenes Chemiemanagementwerkzeug, kondensierte Chemiewartung und eine unterstützte Verfahrensanleitung. TOKYO ELECTRON Formula-1S-H hat einen hohen Durchsatz, so dass es qualitativ hochwertige Ätzergebnisse in einer relativ kurzen Prozesszeit zu produzieren. Die Anlage wurde auch als zuverlässig konzipiert, da sie Hochleistungs-HF-Feldern und extremen Temperaturen standhält. All diese Funktionen machen es zu einer idealen Wahl für Ätzanwendungen, die schnelle und präzise Radierungen erfordern.
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