Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Formula-1S-H #293654963 zu verkaufen
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ID: 293654963
Weinlese: 2005
Diffusion furnace
Control system
Heater temperature: 600°C-900°C
Load port
FIMS
Wafer transfer
Boat elevator / Seal cap rotation
Auto shutter
Heater model
N2 Load lock
Boat operation
Process: LPCVD
Si SEMI STD-Notch, 12"
Furnace temperature controller: M780
HTR
Power box
Carrier transfer
Mechanical driver
Exhaust box
Front and rear upper cover
Final valve box
Gas flow chart
O2 Analyzer
Hard Disk Drive (HDD)
Does not include HCT
User interface:
MMI and gas flowchart: Gas box and front operation panel installed
Pressure display Unit: Mpa / Torr
Carrier type: FOUP / 25slots SEMI STD
Fork meterial: Al203 and PEEK
W/T Type: 1+4 Edge grip
16-Carrier stage capacity
Wafer notch aligner
RCU
UPS
Power distribution system:
3-Phase connection type: Star connection
Single-Phase connection: Grounded
Single-Phase voltage
Gas distribution system:
FUJIKIN Integrated Gas System (IGS)
IGS Final filter, regulator: MFC Z500 Type
MKS Capacitance manometer vacuum gage - press monitor (133 Kpa)
Power supply: 400 VAC, 3 Phase, 50/60 Hz
2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Formula-1S-H ist ein Ätzer/Ascher für Anwendungen, bei denen ein schneller, präziser und feiner Ätzprozess erforderlich ist. Das Gerät verwendet eine Kombination aus einer Plasmaquelle, Ätzgas, kontrollierter Leistung und Hochfrequenz (HF) elektrischer Leistung, um ein perfektes Ätzprofil zu schaffen. Der Ätzprozess beginnt damit, ein sauberes und exakt planares Substrat zu gewährleisten. Dadurch wird sichergestellt, daß der Ätzprozeß zu gleichmäßigen Ätzergebnissen im Substrat führt. Anschließend wird das Ätzgas in die Systemkammer eingespritzt, die durch einen unabhängigen HF-Antennenabschnitt vom Substrat getrennt ist. Die Einheit wendet dann HF-Energie auf die Kammer an und erzeugt ein Plasma aus geladenen Partikeln und reaktiven Spezies, die mit dem Substrat interagieren. Die Ätzgeschwindigkeit wird dann durch eine Kombination von Parametern wie dem Ätzbereich, der Strömungsgeschwindigkeit des Ätzgases und der Leistungsintensität gesteuert. TEL Formula-1S-H ist mit einer Präzisions-Ätzkammer ausgestattet, die sich zum Ätzen von HAR-Strukturen eignet und gleichzeitig ein niedriges vertikales Erosionsprofil gewährleistet. Dadurch können auch komplizierteste dreidimensionale Strukturen mit hoher Genauigkeit definiert werden. Darüber hinaus verfügt die Maschine über eine Vielzahl von benutzerfreundlichen Funktionen, wie automatische Wafererkennung, ein bordeigenes Chemiemanagementwerkzeug, kondensierte Chemiewartung und eine unterstützte Verfahrensanleitung. TOKYO ELECTRON Formula-1S-H hat einen hohen Durchsatz, so dass es qualitativ hochwertige Ätzergebnisse in einer relativ kurzen Prozesszeit zu produzieren. Die Anlage wurde auch als zuverlässig konzipiert, da sie Hochleistungs-HF-Feldern und extremen Temperaturen standhält. All diese Funktionen machen es zu einer idealen Wahl für Ätzanwendungen, die schnelle und präzise Radierungen erfordern.
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