Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Formula-1S-H #9382422 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Formula ALD High-K ist eine fortschrittliche Ätz-/Ascher-Ausrüstung, die für die Herstellung von Halbleiterbauelementen optimiert ist. Unter Verwendung von ALD-Techniken (Atomic Layer Deposition) und dielektrischen Materialien mit hoher K bietet TEL Formula ALD High-K eine präzise Steuerung der Ätztiefe und eine ausgezeichnete Selektivität. Dieser fortschrittliche Ätzer/Ascher verfügt über einen zuverlässigen, wiederholbaren Vakuumprozess, der in der Lage ist, Materialien zu entfernen und gleichzeitig ihre Dicke zu kontrollieren. Sein fortschrittliches Kühlsystem sorgt für schnelle, gleichmäßige Kühlgeschwindigkeiten über den Wafer und reduziert unerwünschte seitlich definierte Ätzungen. TOKYO ELECTRON Formula ALD High-K verfügt über einen leistungsstarken Hochleistungsmotor, der schnelle, präzise Ätztechniken für die Herstellung neuester Halbleiterbauelemente ermöglicht. Sein Präzisionsabscheidungskopf sorgt für hohe Selektivität beim Ätzen von Substraten verschiedener Größen. Formel ALD High-K ist kompatibel mit verschiedenen Arten von Substraten, einschließlich Silizium, Siliziumoxid, Silikat, Molybdat und Quarz, unter anderem, so dass es für verschiedene Halbleiterbauelementanwendungen geeignet. Das Gerät unterstützt auch den Einsatz von dielektrischen Materialien mit hohen k, die im Vergleich zu herkömmlichen Lösungen hervorragende dielektrische Eigenschaften bieten. TEL/TOKYO ELECTRON Formula ALD High-K bietet überlegene Ätzgleichmäßigkeit und ist damit der ideale Ätzer/Ascher für fortschrittliche Halbleiterbauelemente. Die hochentwickelten dielektrischen Materialien sorgen für überlegene Ätzergebnisse, ohne auf Kompatibilität oder Zuverlässigkeit zu verzichten. Sein hocheffizienter Motor ermöglicht hochdichtes, hochgeschwindiges Ätzen, während seine Genauigkeit hohe Ergebnisse bei niedrigen Gesamtbetriebskosten gewährleistet. Insgesamt ist TEL Formula ALD High-K eine fortschrittliche Ätz-/Aschermaschine, die für die Herstellung der neuesten Halbleiterbauelemente optimiert ist. Das ausgeklügelte und zuverlässige Vakuumverfahren sowie die Kompatibilität mit fortschrittlichen High-K-Materialien machen dieses Werkzeug zu einer idealen Lösung für jeden Ätz- oder Ascheprozess. Damit ist TOKYO ELECTRON Formula ALD High-K ein leistungsstarkes Werkzeug für die moderne Halbleiterbauelementherstellung.