Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Formula ALD High-K #9263878 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Formula ALD High-K (oder FormulAlD) ist ein fortschrittlicher Ätzer/Ascher, der für Halbleiterherstellungsprozesse entwickelt wurde. Das Produkt ist eine chargenweise, in sich geschlossene Ausrüstung, die in der Lage ist, fortschrittliche Ätz- und Aschefunktionen bereitzustellen, um fortschrittliche Anforderungen an die Herstellung von Halbleiterlithographie zu erfüllen. Das FormulAlD-System verfügt über eine optimierte Doppelkammer-Architektur, die eine patentierte, modulierte Trockenätzkammer und eine überlegene Performance-Ätzkammer umfasst. Die trockene Ätzkammer ermöglicht eine möglichst hohe Ätzrate bei minimaler Verunreinigung. Die Kammer verwendet eine patentierte Dual-Bias-Technologie, die drei unabhängige frequenzgesteuerte Hochfrequenzimpulse in jedem Zyklus kombiniert, um eine beispiellose Ätzrate auf einer Vielzahl von Materialien bereitzustellen. Der erste Impuls wird als Vorreinigungsprozess verwendet und der zweite und dritte Impuls bieten präzise, wiederholbare Ätzung mit minimaler Unterlage auf der geätzten Oberfläche. Die Kammer verfügt über einen TEL-installierten Ätzmonitor mit Echtzeit-Überwachungs- und Rezeptortungsfunktionen. Die zweite Kammer ist die fortgeschrittene Aschkammer, die für das Aschen von fortgeschrittenen Metall- und Isolatormaterialien optimiert ist. Mit einem dreistufigen Verfahren, das ein schnelles Hochfahren der Temperaturen, ein zweistufiges Aufheizen und ein schnelles Abkühlen beinhaltet, kann der Ascher bis zu 2000 nm/min ätzen. Die Kammer verwendet auch eine nicht-invasive direkte Pyrometrieeinheit, die die Temperaturen des Wafers während des Aschvorgangs ständig überwacht. Dieses Verfahren gewährleistet ein gleichmäßiges Ascheprofil ohne Variationen in der Oberflächentopographie. Neben der Dualkammer-Architektur verfügt die FormulAlD-Maschine auch über zahlreiche Technologien, wie optionale Plasma-Recycling-Schaltungen und eine Sub-2 µm-Partikelgrößensteuerung. Der Partikelgrößenkontrollsollwert ist einstellbar und mit einem 3-Mikron-Reinigungswerkzeug in-situ gekoppelt. Zusätzlich verfügt das Modell über einen optionalen integrierten Resiststreifenkanal zur Nachätzsteuerung der Waferoberfläche. Das FormulAlD-Gerät ist das einzige fortschrittliche Ätzgerät seiner Art, das auf dem Markt erhältlich ist. Das System ist in der Lage, fortschrittliches Ätzen und Aschen einer Vielzahl von Materialien durchzuführen, um die strengsten Geometrieanforderungen zu erfüllen und ist ideal für Serienproduktionslinien. Das Gerät wurde in mehreren Anwendungen getestet und bewährt und bietet zuverlässige Leistung sowie eine verbesserte Produktivität.