Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Formula ALD High-K #9263885 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Formula ALD High-K ist ein reaktiver Ionenätzer/Ascher, der entwickelt wurde, um fortschrittliche Bauelemente aus Silizium und anderen Substraten in der Halbleiterindustrie herzustellen. Ausgestattet mit einer hochpräzisen, hochmodernen Plasmaquelle ermöglicht das Werkzeug das präzise Ätzen oder Veraschen extrem dünner Schichten (bis zu 1nm) in ebenen und dreidimensionalen Strukturen. Das System verfügt auch über erweiterte Ausrüstungsverbesserungen, die speziell entwickelt wurden, um die Prozesszeit des Ätz- oder Ascheprozesses zu reduzieren und gleichzeitig eine maximale Präzision beizubehalten. So ist es mit einer Hochfrequenzimpulsquelle sowie verbesserten Gassystemen für optimale Ätz- und Ascheleistungen ausgestattet. Darüber hinaus ermöglicht die einzigartige TEL Formula ALD High-K-Technologie eine bessere Kontrolle der Plasmaeigenschaften und der Genauigkeit der Ätzraten. Dies ermöglicht somit die Reproduktion hochgradiger Ätz- und Aschemuster mit Wiederholbarkeit und Gleichmäßigkeit. Darüber hinaus unterstützt TOKYO ELECTRON Formula ALD High-K den Einsatz verschiedener Gase, wie einiger fluorierter Gase, für hochspezialisierte Ätz- und Ascheprozesse. Es verfügt auch über Merkmale, die es ermöglichen, eine breite Palette von Materialschichten (zwischen 1 und 25 nm Dicke) mit überlegener Sauberkeit und Genauigkeit zu fertigen. Darüber hinaus ist das System mit einer Vielzahl von Substraten kompatibel, darunter Silizide, Oxide und High-K-Dielektrika. Mit geeigneten Sicherheitsmaßnahmen und Fachwissen kann Formula ALD High-K einen zuverlässigen Ätz- und Ascheprozess bereitstellen, der in der Lage ist, hochleistungsfähige, fortschrittliche Geräte aus Silizium und anderen Substraten herzustellen. Als solches ist es ein unschätzbares Werkzeug für Halbleiterunternehmen.