Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Formula ALD High-K #9283434 zu verkaufen
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TEL/TOKYO ELECTRON Formula ALD High-K Ätzer/Ascher ist eine fortschrittliche, computergesteuerte Ätzausrüstung, die zur Herstellung von Halbleitern, MEMS und anderen Nanoformen verwendet wird. Das System nutzt die ALD-Technologie (Atomic Layer Deposition), um die präzise Steuerung von widerstandsfähigen und/oder ätzbaren Materialien während des Ätzprozesses zu ermöglichen. TEL Formel ALD High-K Einheit ist mit zwei Kammern ausgestattet: eine für Plasmaätzen und eine für Plasmaaschen. Die Maschine führt beide Verfahren in einer einzigen Kammer mit einem einzigen Waferübertragungswerkzeug aus. Die Anlage verfügt über eine obere und untere induktive HF-Quelle, die eine gleichmäßige Heizung und eine niedrige Energiequelle bietet, die zum Ätzen oder Aschen verwendet werden kann. Es enthält auch eine Reihe von anpassbaren Parametern für Prozessrezepte. Das Modell kann eine Vielzahl von Resist- und ätzbaren Materialtypen handhaben, darunter SiO2, SiN, Si, AlOx, dielektrische/halbleitende/polymere/leitende Dielektrikum/Metalle und andere Materialien. Die softwareprogrammierbare Ätzleistung, der Druck und die Prozesszeit ermöglichen es Anwendern, aus einer Vielzahl von Rezepten optimale Bedingungen auszuwählen. TOKYO ELECTRON Formula ALD High-K Ätzer/Ascher verfügt über die Fähigkeit zur In-situ-Reinigung, die eine kontinuierliche Produktion und einen höheren Durchsatz ermöglicht. Darüber hinaus hat sich die Ausrüstung bewährt, eine reibungslose und gleichmäßige Ätz-/Aschleistung auf Wafern zu erzielen. Dieses fortschrittliche System ist in der Lage, zahlreiche Wafer parallel zu verarbeiten, mit präziser Steuerung von Ätz-/Ascheparametern und Resiststreifen. Der hohe Durchsatz, die Gleichmäßigkeit und die präzise Ätz-/Aschesteuerung machen es zu einem idealen Werkzeug für die Halbleiterherstellung, die MEMS-Herstellung und andere Nanodesign-Verarbeitung. Mit seiner präzisen Ätz- und Aschensteuerung ist Formula ALD High-K Ätzer/Ascher die beste Wahl für jedes Nanotechnologie-/Nanofabrikationslabor.
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