Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Formula #293596090 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Formula
ID: 293596090
Nitride furnace.
TEL/TOKYO ELECTRON FORMULA (TEL/TF) ist ein Ätzer/Ascher, der von TOKYO ELECTRON (TEL/TOKYO ELECTRON) für Ätz- und Ascheprozesse in der Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Es basiert auf der einzigartigen Technologie des Unternehmens und bietet einen zuverlässigen und effizienten Ätz-/Ascheprozess für eine breite Palette von Gerätetypen. TEL/TF etcher/asher ist eine vakuumbasierte Ausrüstung, die eine Reihe fortschrittlicher Technologien verwendet, um ein stabiles Ätzen/Aschen von Präzisionsarchitekturen zu ermöglichen. Es hat eine kleine Stellfläche, die es für eine Vielzahl von Ätz-/Ascheprozessen geeignet macht. Darüber hinaus verfügt es über ein automatisiertes Prozessleitsystem und eine fortschrittliche Bewegungssteuerung, die einheitliche Ätz-/Ascheparameter über das gesamte Substrat gewährleistet. Für den Ätzprozess verwendet TOKYO ELECTRON/TF etcher/asher einen reaktiven Ionenätzprozess (RIE), der geätzte Strukturen kontrollierter als bei herkömmlichen RIE-Verfahren ätzen kann. Darüber hinaus hat es die Fähigkeit, isotropes und anisotropes Ätzen verschiedener Materialien durchzuführen und kann zur Herstellung von 3D-Strukturen verwendet werden. Der Ätzprozess verwendet ein induktiv gekoppeltes Plasma (ICP) mit einer integrierten Gasfördereinheit, die von einem erweiterten Regler gesteuert wird. In der Zwischenzeit nutzt der Aschevorgang von TEL/TOKYO ELECTRON/TF etcher/asher Teflon-gekapselte Infrarotlampen, um wiederholbares, gasdichtes und chemisch inertes Plasma zur Entfernung restlicher Verunreinigungen in den Ätz- und anderen Prozessen zu erreichen. Die Aschmaschine kann den Druck, die Temperatur und die Kammeratmosphäre genau einstellen, um hochkonsistente und wiederholbare Prozesse bereitzustellen. Darüber hinaus verfügt TEL/TF Ätzer/Ascher über eine breite Palette von elektromechanischen Kassettenübertragungen und Zubehör für automatisierte Substratbeladung und -handhabung. Es verfügt auch über fortschrittliche Wafer-Heiz- und Kühlsysteme sowie Vakuumpumpen zur genauen Aufrechterhaltung der Substrattemperaturen. TOKYO ELECTRON/TF Ätzer/Ascher ist vielseitig einsetzbar und kann an die Anforderungen verschiedener Ätz-/Ascheprozesse angepasst werden. Mit seinem breiten Spektrum an Fähigkeiten und fortschrittlichen Technologien ist TEL/TOKYO ELECTRON/TF etcher/asher eine zuverlässige und effiziente Lösung für Ätz- und Ascheprozesse in der Halbleiterindustrie.
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