Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Formula #293620669 zu verkaufen
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ID: 293620669
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2003
Furnace, 12"
(2) Load ports
(7) Boxes
Chamber
2003 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON FORMULA ist eine hochpräzise Ätzmaschine, die für ultrafeine Schaltungsmuster- und Photomaskierungsanwendungen entwickelt wurde. TEL Formula ist in der Lage, Ätzprozesse mit spezialisierten Substraten und Materialien mit höchster Präzision durchzuführen. Die Maschine verfügt über eine innovative automatisierte Waferlieferanlage, die die Bearbeitung von Großaufträgen zeitnah und effizient ermöglicht. Der von der Maschine angewandte hochpräzise Ätzvorgang beginnt damit, ein Substrat in die Kammer einzuladen, das dann dicht verschlossen und mit Umgebungsluft gespült wird. Heizgeräte und Niederdruckelektronen evakuieren dann die Kammer und schaffen eine optimale Verarbeitungsatmosphäre. Danach nutzt die Ätzmaschine fortschrittliche Pulsed Laser Deposition (PLD) und Ionenstrahl-Ätztechnologien (IBE), um eine Reihe von mehrstufigen Metall- und dielektrischen Filmen zu erstellen. Die Präzision der TOKYO ELECTRON Formula wird durch die eingebauten Atom-Absorptions- und Source-Target-Isolationssysteme weiter verbessert. Diese Systeme reduzieren Toleranzen und Schwankungen der Ätzparameter, wodurch feine Linienformen und winzige Punktabstände erzeugt werden können. Dadurch wird die Gefahr von Waferverformungen oder Ätzfehlern weiter minimiert. Darüber hinaus ist Formula mit einem eingebetteten Steuerungssystem ausgestattet, mit dem Techniker jeden Prozess anpassen können. Die Maschine verfügt auch über eine robuste Auto-Partikel-Filtrations- und Rückgewinnungseinheit, die dazu beiträgt, die Möglichkeit von Staub oder Schmutz in die Folien einzubauen. Dank seiner einzigartigen automatisierten Passivierungsmaschine kann die Struktur jeder Schicht gründlich überwacht und angepasst werden, um Schäden zu vermeiden. Abschließend bieten TEL/TOKYO ELECTRON Formula Ätzmaschinen eine hervorragende Präzisions- und Präzisionstechnik für eine Reihe von Anwendungen zur Photomaskierung und Nanofabrikation. Das leistungsstarke Leistungsspektrum, einschließlich automatischer Waferliefer- und Steuerungssysteme, sorgt dafür, dass die empfindlichsten und kompliziertesten Substrate effizient und nach höchsten Standards verarbeitet werden können.
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