Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Formula #9098194 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Formula ist ein hochentwickelter Ätzer und Ascher, der auf dem Gebiet der Halbleiterherstellung eingesetzt wird. Es ist ein Einzelwafer-System, das für Abscheide- und Ätzprozesse konzipiert ist und für eine Vielzahl von Schritten in der Halbleiterherstellung verwendet werden kann, einschließlich Dünnschichtabscheidung, Ätzen oder chemisch-mechanisches Polieren. Das einzigartige Design dieses Ätzers/Aschers bietet schnelle Prozesszeiten, höheren Durchsatz und verbesserte Prozessgleichförmigkeit. TEL Formel verwendet eine Vielzahl von Plasmaquellen, um die Materialien zu ätzen und zu formen. Dieser Ätzer/Ascher verfügt über Vakuum- und Hochdruck-Prozesskammern. Die Vakuumkammer dient zur Durchführung von Ätz-, Dünnschicht- oder CMP-Prozessen. Die Hochdruckkammer wird für erhöhte Produktivität und qualitativ hochwertigere Schnittstellen mit dem Substrat genutzt. Das innovative Design der TOKYO ELECTRON Formula basiert auf einem Zweifrequenz-HF-Generator und einem Kurzpuls-Hochfrequenz-HF-Generator, der hohe bzw. niedrige Leistungen liefert. Der Hauptvorteil dieser Konstruktion ist, dass sie höhere Ätzraten sowie eine bessere Oberflächengleichförmigkeit ermöglicht. Darüber hinaus ermöglicht der Doppelfrequenzgenerator auch schnellere Prozesszeiten und eine verbesserte Prozesssteuerung. Das fortschrittliche Design von Formula ermöglicht auch den Einsatz niedrigerer Temperaturen, was eine verbesserte Materialverträglichkeit und erhöhte Prozessflexibilität ermöglicht. Diese Technologie ermöglicht den Einsatz fortschrittlicher Materialien und Hochleistungsfilmabscheidungsprozesse sowie eine überlegene Ätzselektivität. Darüber hinaus bietet TEL/TOKYO ELECTRON Formula eine globale Einfallsfrequenzregelung für optimierte Ätzleistung und verbesserte Prozesssteuerung. Die Gesamtleistung von TEL Formula ist sehr beeindruckend. Dieser Ätzer/Ascher bietet ausgezeichnete Prozesswiederholbarkeit, hohen Durchsatz und überlegene Ätzraten und ist damit eine attraktive Wahl für eine Vielzahl von Halbleiterherstellungsprozessen. Darüber hinaus ermöglicht das fortschrittliche Design viel schnellere Bearbeitungszeiten sowie eine verbesserte Prozesskontrolle, so dass die Hersteller höhere Erträge und eine präzise Prozesskontrolle erzielen können.