Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Formula #9121065 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Formula (TEF) ist eine fortschrittliche Ätz-/Ascherplattform für Halbleiterherstellungsprozesse, die eine überlegene Präzision und Kontrolle des Materialentfernungsprozesses bietet. TEF-Technologie besteht aus einer hochpräzisen Platte, einer Vakuumkammer und einem Gasfördersystem. Die obere Platte besteht aus 304L Edelstahl für überlegenen Abrieb und Korrosionsbeständigkeit. Der hochpräzise Saugnapf unter der Platte ermöglicht eine genaue Positionierung des Wafers, auch bei großen Belastungen. Die Vakuumkammer hat eine einzigartige Konfiguration, die eine höhere Prozesskontrolle über Ätzraten und Gleichmäßigkeit ermöglicht. Der Gasstrom wird innerhalb eines Rückkopplungssystems geregelt. Alle erforderlichen Prozessparameter können angepasst werden, um die gewünschten Prozeßergebnisse zu erzielen. Die TEF-Etcher/Ascher-Plattform bietet eine Reihe von Leistungsvorteilen, wie hohe Ätzrate und Prozessausbeute, Prozesswiederholbarkeit und einheitliches Ätzen. Der hochpräzise Saugnapf mit einem Durchmesser von 30 oder 50 mm ist auf eine genaue Positionierung des Wafers während des Ätzvorgangs ausgelegt. Dies sorgt für einheitliche und wiederholbare Ergebnisse. Die Vakuumkammer weist außerdem einen gleichmäßigen Gasdruck und Durchfluss auf, um ein gleichmäßiges Ätzen zu gewährleisten. Darüber hinaus ermöglicht die einfache Parametereinstellung eine bessere Steuerung der Ätzrate, was letztendlich zu einer höheren Prozessausbeute führen kann. Die TEF-Plattform ist mit Dual-Track-Technologie ausgestattet, die eine breite Palette von Prozesslösungen wie konventionelles Ätzen und Richtätzen sowie Metall-Halbleiter-Ätzen bietet. Diese Funktion ist mit einer Reihe von Ätzgasen kompatibel und ermöglicht es Benutzern, ihre Prozesse zu optimieren, indem sie das effizienteste Ätzmittel für ihre Anwendung verwenden. Darüber hinaus verfügt die TEF-Plattform über einen dreidimensionalen Profilmonitor (TPM), der die Überwachung und Anpassung des Ätzprozesses in Echtzeit für eine verbesserte Prozessleistung unterstützt. Insgesamt ist TEL Formula Platform ein fortschrittlicher Ätzer/Ascher, der speziell entwickelt wurde, um die Effizienz und Ausbeute der Halbleiterherstellung zu maximieren. Seine hochpräzise Saugnapf, gleichmäßiger Gasdruck und Durchfluss, Dual-Track-Technologie und TPM ermöglichen es Benutzern, die volle Kontrolle über den Ätzprozess für überlegene Prozessleistung zu übernehmen.