Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Formula #9300651 zu verkaufen

ID: 9300651
Wafergröße: 12"
Furnace, 12" Process: ALD High-K.
TEL/TOKYO ELECTRON Formula (TEF) ist eine hochpräzise Ätz-/Aschemaschine zur Herstellung von Halbleitersubstraten und anderen empfindlichen Dünnschichtanwendungen. TEF bietet unübertroffene Genauigkeit und Stabilität und ist damit ein ideales Werkzeug für anspruchsvollere Ätz- und Ascheranwendungen. Die TEF-Ätz-/Aschemaschine hat eine kontinuierlich einstellbare Ätzrate und erzeugt ultrafeine Auflösungen mit minimierten Linienbreiten. Es kombiniert hochmoderne Präzision mit einem langfristig zuverlässigen Ätzprozess, um präzise und wiederholbare Ätz- und Ascheergebnisse zu erzielen. Die TEF Ätz-/Aschemaschine ist in einer Vielzahl von Größen und Funktionen erhältlich, die für alle Substrate und Ätz-/Aschemaschinen-Anforderungen ausgelegt sind. Es kann in einem Standard-Reinraum-Setup angeschlossen und installiert werden, was eine einfache Wartung und Bedienung des Ätz-/Aschers ermöglicht. Das TEF verfügt außerdem über eine automatisierte Pulverlagerung, die eine präzise Abscheidung von Sensibilisierungspulvern ermöglicht und eine verbesserte Ätzgenauigkeit und -ergebnisse ermöglicht. TEF-Ätz-/Aschemaschine wird durch staubfreie Luftlagerung angetrieben und kann mit elektrochemikallyaktiven Ätzmitteln verwendet werden, die typischerweise in Halbleiteranwendungen verwendet werden. Es verfügt auch über eine Edelstahlkammer, die für ständiges Ätzen/Aschen sorgt und beliebig unter Druck gesetzt oder entspannt werden kann. Das TEF kann mit einer Vielzahl von Ätz-/Ascheprozessparametern umgehen, so dass unterschiedliche Ätz- und Ascheergebnisse erzielt werden können. Die TEF Ätz-/Aschemaschine verfügt auch über ein Vision-System, das mehrere Ätz-/Ascheprozesse nacheinander genau überwachen und den Durchsatz und die Genauigkeit verbessern kann. Die Maschine wird von einem programmierbaren Bewegungsregler gesteuert und bietet höchste Präzision und Flexibilität für Ätz- und Ascheprozesse. Eine integrierte Alarmeinheit überwacht die Prozessbedingungen und kann die Maschine bei Abweichung von Standardparametern abschalten. Für das präzise Ätzen und Aschen von Substraten ist die TEF-Asche eine ideale Wahl. Seine überlegene Leistung und Zuverlässigkeit machen es zum Ätzer der Wahl für viele Halbleiter- und Dünnschichtanwendungen. Mit seiner unschlagbaren Präzision, der einfachen Installation in einem Standardreinraum und dem automatisierten Pulverablagerungswerkzeug bietet TEF eine effiziente und zuverlässige Lösung für Ätz-/Ascheranforderungen.
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