Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Formula #9384119 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Formula ist eine fortschrittliche Ätz- (oder Ascheausrüstung) für Halbleiterherstellungsanwendungen. Dieses System ist in der Lage, hochkomplexe Ätzprozesse mit hoher Genauigkeit und Wiederholbarkeit durchzuführen. TEL Formel kommt mit einer Vielzahl von verschiedenen Werkzeugen wie der Plasmaquelle, der Clean Etch Vacuum Chamber, einem Plasmagenerator und dem End Point Silicon Memory Cell Prozessor. Gemeinsam sollen diese Komponenten es dem Anwender ermöglichen, Prozesse wie chemisch-mechanische Planarisierung (CMP), Plasmaätzen und Trockenätzen durchzuführen. Es verfügt auch über die Fähigkeit, den Ätzprozess zu überwachen, zu messen und zu steuern. Die Plasmaquelle in TOKYO ELECTRON Formula ist in der Lage, hochgleichmäßiges und reproduzierbares Plasma mit einem hohen Ionisationsgrad zu erzeugen. Dadurch ergibt sich ein konsistentes Ätzmuster, das genau auf beabsichtigte Pfade gerichtet werden kann. Die Clean Etch Vacuum Chamber ermöglicht es dem Benutzer, spezifische Ätzspannungen und Gasflussraten einzustellen, um ein gleichmäßiges Ätzen zu gewährleisten. Der Plasmagenerator bietet eine leistungsstarke Energiequelle für präzises und wiederholbares Ätzen. Schließlich baut der End Point Silicon Memory Cell Prozessor auf den Fähigkeiten des Plasma Generators auf, indem er es Benutzern ermöglicht, bis zu 40 verschiedene Ätzrezepte mit einer einzigen Tastenauswahl zu speichern und zu verwenden. Die ausgeklügelten Steuerungen in der Formel ermöglichen eine fortschrittliche Prozesscharakterisierung und -überwachung. Dazu gehören DC- und RF-Ätzrate, DC: RF-Verhältnis, Ätztiefensteuerung, Nachätzoberflächenqualität, Liniendichte, Overlay und Defektivität. Diese Einheit ermöglicht auch die Höhenprofilierung und bietet eine Echtzeit-Visualisierung des Ätzprozesses durch die Meso-Cam-Maschine. Diese Funktion ermöglicht es dem Benutzer, Bereiche des Wafers für genaueres Ätzen anzuhängen und Ätzeigenschaften zu beobachten, ohne den Wafer ziehen zu müssen. Die fortschrittlichen Eigenschaften von TEL/TOKYO ELECTRON Formula helfen dabei, die Qualität und Genauigkeit von Ätzprozessen sicherzustellen. Dieses Tool bietet ein komplettes Ätzpaket mit der Flexibilität, anspruchsvolle Prozesse wie Trockenätzen, Ionenfräsen, Oxidabheben, Tiefenätzen von Silizium und Ätzen mit hohem Seitenverhältnis durchzuführen. Es kann auch zur Nachätzreinigung von Wafern mit reaktivem Ionenätzen (RIE) oder kohlenstoffunterstützendem Trockenätzen (CADe) verwendet werden, was die Prozesskontrolle und Ausbeute verbessert. In Verbindung mit anderen TEL-Produkten bietet TEL Formula eine leistungsstarke und kostengünstige Lösung für eine verbesserte Prozesskontrolle und Ausbeuteoptimierung. Das Asset ist für eine einfache Integration in Inline-Prozesse konzipiert und kann auf spezifische Produktionsanforderungen konfiguriert werden. Dieses Tool hilft Herstellern, Prozesse auf ein höheres Maß an Genauigkeit zu steuern, wodurch höhere Produktqualität und Zuverlässigkeit gewährleistet werden.