Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Formula #9412425 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Formula (TEF) ist ein Ätzer/Ascher, der zur präzisen Materialabtragung und Erzeugung von Mustern auf einer Vielzahl von Materialien verwendet wird. Die Technologie hinter dem TEF basiert auf dem Prinzip des Ionenstrahlätzens, das ein Array von hochenergetischen Ionenstrahlen verwendet, um Material von einem Substrat abzuleiten, um Mikrostrukturen und Muster zu erzeugen. Das TEF nutzt eine Vielzahl von Gasgemischen, zusammen mit Ätzspannung und Leistung, um Material genau zu entfernen. Das TEF ist eine vielseitige und flexible Ausrüstung, mit der hochkomplexe Muster in feiner Auflösung hergestellt werden können. Mit dem TEF lassen sich beispielsweise Flossenmuster herstellen, die mit sehr hoher Genauigkeit nur wenige Nanometer groß sind. Es kann auch verwendet werden, um Muster verschiedener Formen und Breiten auf einer Fläche von bis zu 30mm in der Größe zu erstellen. Zusätzlich zu den oben genannten Funktionen hat das TEF auch die Möglichkeit, mehrere Schichten mit den gleichen oder verschiedenen Ätzprozessen zu unterstützen. Dies bedeutet, dass Benutzer komplexe Strukturen mit mehreren Schichten aus verschiedenen Materialien erstellen können, die in einem einzigen Arbeitsgang miteinander verbunden werden können. Darüber hinaus unterstützt das TEF eine Vielzahl von Materialien wie Metalle, Keramik und Halbleiter und eignet sich somit für eine Vielzahl von Anwendungen. Das TEF bietet auch eine Reihe von zusätzlichen Funktionen, einschließlich der Möglichkeit, den Ätzprozess in Echtzeit zu überwachen, Ätzparameter in Reaktion auf sich ändernde Bedingungen zu ändern und die Ätzzeiten mit hoher Genauigkeit zu steuern. Darüber hinaus verfügt es über ein benutzerfreundliches Betriebssystem, mit dem Benutzer einfach Ätzrezepte einrichten und die Ergebnisse überwachen können. Schließlich ist das TEF ein zuverlässiges und robustes Werkzeug, das in den unterschiedlichsten Projekten konsistente Ergebnisse liefern kann. Seine Präzision und Flexibilität machen es besonders für Anwendungen wie Halbleiterherstellung, Geräteherstellung und Mikroelektronik geeignet. Es ist auch eine kostengünstige Wahl für die Herstellung komplexer Muster für Anwendungen wie Leiterplatten und MEMS-Geräte.