Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Indy-B-L #293637436 zu verkaufen
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ID: 293637436
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2009
LPCVD Furnace, 12"
Wafer type: Si semi STD Notch
(100) Production wafers
Maximum operating temperature: 500-1000
N2 Load lock
Boat type handling position
O2 Density control for N2 Load lock
N2 Boat shower wafer cooling
560A Furnace temperature controller
VMM-56-002 Heater
Wafer / Carrier handling:
(25) Carrier type: FOUP
ENTEGRIS A300
Carrier stage capacity: 16
Pin pad A, B
Fork material: Al203 and peek
W/T Type: 1+4 Edge grip
W/T Auto teaching
Furnace facilities:
Furnace exhaust connection point: Top connection
Cooling water connection point: Bottom connection
Gas specification:
IGS 1.5" W-seal rail-mount
FUJIKIN IGS
Tubing bend bend (Less than 90°)
HORIBA STEC
Incoming gas connection point: Bottom connection
Gas vent connection point: Bottom connection
Gas unit exhaust connection point: Bottom connection
Process gas exhaust connection point: Bottom connection
Exhaust specification:
MKS Vacuum gauge-press controller
MKS Vacuum gauge-press monitor
MKS Vacuum gauge-pump monitor
CKD-VEC Main valve
Condenser
Reactor specification:
Tube material: Quartz (outter), quartz (inner)
Inner tube Type (LP): Straight
Inner T/C: Outer tube inferior (wall type)
Tube sealing: O Ring
Soft backfill injector
Boat type: (117) Slots, pitch, 8 mm
Boat rotation
Pedestal type: Quartz
No shutter purge type
Interface specification:
Host communication: Comply with GJG
Equipment host I/F connection: Gas box top HSMS
Ingenio
OHT Capability
Load port operation: Upper
PIO I/F Location: FNC Top
HOKUYO DMS-HB1-Z PIO
RF Carrier ID reader writer type
CIDRW L/P: Read and write
ASYST ATR 9100 CIDRW
TEL CIDRW
User interface
Signal tower model: Customized
Signal tower colors (From the Top): Red / Green / Yellow
Signal tower location: Front
Front operation panel
MMI and gas flow chart: Gas box and front operation panel installed
Indicator type: Superset
Operator switch: Operator access / orange
Pressure display unit (gas inlet / vacuum): Mpa / Pa
Cabinet exhaust pressure display unit: Pa
Gas leak detector:
Gas1 / SiH4
Gas2 / PH3
Gas3 / ClF3
Cable length:
FNC-Power box: 20 meter
Power box -refill system: 30 meter
Power specification:
Voltage: 208 VAC, 3 Phase
Phase connection type: Star connection
Voltage single-phase: 120 VAC
Single-phase connection type: Grounded
Frequency: 60 Hz
Power cable input entrance location: Power box top
2009 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Indy-B-L ist ein Indoor-Wafer-Ätzer/Ascher, der dünne Oxidfilme auf Halbleiterscheiben erzeugt. Es ist eine Hochleistungs-, Mitteldurchsatz, Einkammer-Trockenätzanlage. Das System ist vollautomatisiert mit einer Bedieneroberfläche, die Anwendern eine benutzerfreundliche Prozesssteuerung und -optimierung bietet. TEL INDY B L ist in der Lage, sowohl Ätz- als auch Ascheprozesse für eine Vielzahl von Anwendungen wie CoO, AlOx, ITO und andere durchzuführen. Innerhalb TOKYO ELECTRON INDY B-L gibt es eine 5-Schicht Quarzkammer, einstellbare Druckrohre und 4 unabhängig gesteuerte Strahl N2 Spülauslässe. Der Druck wird von den Komponenten im Steuerregal überwacht und gesteuert; ein Sensor sendet Messwerte sowohl außerhalb als auch innerhalb der Kammer. Die N2-Spülauslässe und der Parameteraufbau im Ätzer/Ascher ermöglichen eine präzise und vollständige Abgabe des Reaktionsgases für rückstandsfreie Wafer. TEL Indy-B-L hat eine maximale Kammergröße von 200 mm bis 8 Zoll mit der höchsten Temperaturverarbeitung von bis zu 400 ° C. Das ECR-Plasma mit hoher Dichte wird durch die Magnecreons erzeugt, die individuell eingestellt werden können, um hohe Qualitätsergebnisse bei geringem Lastniveau und hervorragenden Anpassungseigenschaften über die Drehachse zu erzielen. Das ECR-Quellplasma bietet eine verbesserte Gleichmäßigkeit beim aktiven Schichtätzen bei höherer Ätzrate und besserer Selektivität als herkömmliche Lichtbogenquellen. INDY B-L ist auch mit einem absorbierenden Filter ausgestattet, der automatisch die Farbe ändert, um den Verschmutzungsgrad anzuzeigen. Diese Funktion ist nützlich für die Aufrechterhaltung einer gleichbleibenden Qualität in Batch- und Einzelwaferprozessen. Das Absorptionsmittel absorbiert und sammelt Staubpartikel aus dem Ätz- oder Aschevorgang, wodurch verhindert wird, dass sie in die Maschine gelangen und die Wafer verunreinigen. Der programmierbare Wafer-Handling-Roboter und Transferarm im Lieferumfang von TEL/TOKYO ELECTRON INDY B L ermöglicht die Batch- und Single-Wafer-Verarbeitung. Es bietet auch eine einfache, sichere Wafer-Handhabung für einen einzigen Bediener. Zusätzlich gibt es ein Wafer detektierendes Laserwerkzeug, das sicherstellt, dass der Roboter kalibriert bleibt und die optimale Position beim Übertragen und Ätzen der Wafer erreicht. TEL INDY B-L mit ECR-Plasmaquelle und präziser Ofeneinstellung sorgt für wiederholbares Ätzen/Verdrahten mit niedrigen Gleichförmigkeitsfehlern, ausgezeichneter Prozesssteuerung und geringen Wartungskosten. Es ist ein äußerst zuverlässiges Asset mit einfachen und intuitiven Bedienelementen und Warnfunktionen, ideal für Batch- und Single-Wafer-Verarbeitungsanwendungen.
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