Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Indy-B-L #293637436 zu verkaufen

ID: 293637436
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2009
LPCVD Furnace, 12" Wafer type: Si semi STD Notch (100) Production wafers Maximum operating temperature: 500-1000 N2 Load lock Boat type handling position O2 Density control for N2 Load lock N2 Boat shower wafer cooling 560A Furnace temperature controller VMM-56-002 Heater Wafer / Carrier handling: (25) Carrier type: FOUP ENTEGRIS A300 Carrier stage capacity: 16 Pin pad A, B Fork material: Al203 and peek W/T Type: 1+4 Edge grip W/T Auto teaching Furnace facilities: Furnace exhaust connection point: Top connection Cooling water connection point: Bottom connection Gas specification: IGS 1.5" W-seal rail-mount FUJIKIN IGS Tubing bend bend (Less than 90°) HORIBA STEC Incoming gas connection point: Bottom connection Gas vent connection point: Bottom connection Gas unit exhaust connection point: Bottom connection Process gas exhaust connection point: Bottom connection Exhaust specification: MKS Vacuum gauge-press controller MKS Vacuum gauge-press monitor MKS Vacuum gauge-pump monitor CKD-VEC Main valve Condenser Reactor specification: Tube material: Quartz (outter), quartz (inner) Inner tube Type (LP): Straight Inner T/C: Outer tube inferior (wall type) Tube sealing: O Ring Soft backfill injector Boat type: (117) Slots, pitch, 8 mm Boat rotation Pedestal type: Quartz No shutter purge type Interface specification: Host communication: Comply with GJG Equipment host I/F connection: Gas box top HSMS Ingenio OHT Capability Load port operation: Upper PIO I/F Location: FNC Top HOKUYO DMS-HB1-Z PIO RF Carrier ID reader writer type CIDRW L/P: Read and write ASYST ATR 9100 CIDRW TEL CIDRW User interface Signal tower model: Customized Signal tower colors (From the Top): Red / Green / Yellow Signal tower location: Front Front operation panel MMI and gas flow chart: Gas box and front operation panel installed Indicator type: Superset Operator switch: Operator access / orange Pressure display unit (gas inlet / vacuum): Mpa / Pa Cabinet exhaust pressure display unit: Pa Gas leak detector: Gas1 / SiH4 Gas2 / PH3 Gas3 / ClF3 Cable length: FNC-Power box: 20 meter Power box -refill system: 30 meter Power specification: Voltage: 208 VAC, 3 Phase Phase connection type: Star connection Voltage single-phase: 120 VAC Single-phase connection type: Grounded Frequency: 60 Hz Power cable input entrance location: Power box top 2009 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Indy-B-L ist ein Indoor-Wafer-Ätzer/Ascher, der dünne Oxidfilme auf Halbleiterscheiben erzeugt. Es ist eine Hochleistungs-, Mitteldurchsatz, Einkammer-Trockenätzanlage. Das System ist vollautomatisiert mit einer Bedieneroberfläche, die Anwendern eine benutzerfreundliche Prozesssteuerung und -optimierung bietet. TEL INDY B L ist in der Lage, sowohl Ätz- als auch Ascheprozesse für eine Vielzahl von Anwendungen wie CoO, AlOx, ITO und andere durchzuführen. Innerhalb TOKYO ELECTRON INDY B-L gibt es eine 5-Schicht Quarzkammer, einstellbare Druckrohre und 4 unabhängig gesteuerte Strahl N2 Spülauslässe. Der Druck wird von den Komponenten im Steuerregal überwacht und gesteuert; ein Sensor sendet Messwerte sowohl außerhalb als auch innerhalb der Kammer. Die N2-Spülauslässe und der Parameteraufbau im Ätzer/Ascher ermöglichen eine präzise und vollständige Abgabe des Reaktionsgases für rückstandsfreie Wafer. TEL Indy-B-L hat eine maximale Kammergröße von 200 mm bis 8 Zoll mit der höchsten Temperaturverarbeitung von bis zu 400 ° C. Das ECR-Plasma mit hoher Dichte wird durch die Magnecreons erzeugt, die individuell eingestellt werden können, um hohe Qualitätsergebnisse bei geringem Lastniveau und hervorragenden Anpassungseigenschaften über die Drehachse zu erzielen. Das ECR-Quellplasma bietet eine verbesserte Gleichmäßigkeit beim aktiven Schichtätzen bei höherer Ätzrate und besserer Selektivität als herkömmliche Lichtbogenquellen. INDY B-L ist auch mit einem absorbierenden Filter ausgestattet, der automatisch die Farbe ändert, um den Verschmutzungsgrad anzuzeigen. Diese Funktion ist nützlich für die Aufrechterhaltung einer gleichbleibenden Qualität in Batch- und Einzelwaferprozessen. Das Absorptionsmittel absorbiert und sammelt Staubpartikel aus dem Ätz- oder Aschevorgang, wodurch verhindert wird, dass sie in die Maschine gelangen und die Wafer verunreinigen. Der programmierbare Wafer-Handling-Roboter und Transferarm im Lieferumfang von TEL/TOKYO ELECTRON INDY B L ermöglicht die Batch- und Single-Wafer-Verarbeitung. Es bietet auch eine einfache, sichere Wafer-Handhabung für einen einzigen Bediener. Zusätzlich gibt es ein Wafer detektierendes Laserwerkzeug, das sicherstellt, dass der Roboter kalibriert bleibt und die optimale Position beim Übertragen und Ätzen der Wafer erreicht. TEL INDY B-L mit ECR-Plasmaquelle und präziser Ofeneinstellung sorgt für wiederholbares Ätzen/Verdrahten mit niedrigen Gleichförmigkeitsfehlern, ausgezeichneter Prozesssteuerung und geringen Wartungskosten. Es ist ein äußerst zuverlässiges Asset mit einfachen und intuitiven Bedienelementen und Warnfunktionen, ideal für Batch- und Single-Wafer-Verarbeitungsanwendungen.
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