Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON INDY PLUS B M #293637534 zu verkaufen
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ID: 293637534
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2010
Diffusion furnace, 12"
Carrier stage body
Main body
Vacuum box
X-Precursor bubbler box
Option box
Heater
PWR Box:
XP41VP
(2) XP42VP
XS7VP
XP2
XS5
Pump interphone
MM1 INTFC 2XP1
XP56VP
XS73VP
(2) XT902 TMA SAFTY Unit
XS103VP
XP776VP
XT 514-8
XT516
XT739
(2) XT901 TMA SAFTY Unit
Interphone XP92VP
XT530
XP40VP
GRSO PCB CN1
GRSO CN2
(5) XT513
(11) XT514
(5) XT510
XT513-1
XT513-2
XT513-3
XT510-7
(2) XP 1028 EXC
XP 1023 EXC
XP 1024 EXC
XP 1025 EXC
T/C Unit
T/C Cable
T/C Box
Control box top cover
Gas piping duct
RCU Piping box
Piping
Gas detector
Smoke detector
T/C Junction box
G/Box exhaust connection
FNC TOP Exhaust connection
O2 Analyzer
Vacuum box cover-1
Control box fox jig
Cooling water piping
Facility connection cover
Scavenger cover
Heater panel
Vacuum box cover-2
Heater frame support
Option box cover
Shutter corer
Carrier stage TOP Cover front panel
Fixed tripod
Positioning iron piece
Screws
Manifold
Main valve
Vacuum piping P1
Vacuum piping P2
Vacuum piping P3
Vacuum piping P4
Vacuum piping P5 (Bellow)
Inner tube support ring
Pedestal plate
Center ring
Outer tube lock ring
Boat rotate support
Inner tube lock ring
Outer tube seal ring
Manifold heater
Vacuum piping tape heater
Manifold ceiling water piping
Leak check port handle valve
Vacuum piping clamp
Heater insulator
Power box
2010 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON INDY PLUS B M ist eine leistungsstarke Ätzanlage, die den anspruchsvollen Anforderungen heutiger Halbleiterherstellungsprozesse gerecht wird. Dieser Ätzer ist in der Lage, verschiedene Substrate von Silizium bis hin zu organischen Materialien wie Kunststoffen und organischen Leuchtdioden (OLEDs) zu verarbeiten. Der fortschrittliche Ätzprozess des Systems, physikalische Dampfabscheidung (PVD) genannt, ermöglicht eine genaue Kontrolle der Form, Größe und Zusammensetzung jeder Schicht. Es zeichnet sich durch ein sehr gleichmäßiges Abscheidungsmuster und eine hohe Prozessausbeute aus. Der Ätzer ist mit einer Hochleistungs-CVD-Anlage (Chemical Vapor Deposition) zur schnellen und gleichmäßigen Plasmaätzung von Schichten ausgestattet. TEL INDY PLUS B-M bietet eine Reihe von Temperaturregelungsmöglichkeiten für optimale Ätzbedingungen. Es enthält sowohl eine Heizplatte als auch eine Induktionsheizung, die eine präzise Temperaturregelung bis zu 2000 ° C ermöglicht. Ein Elektromagnet in der Ätzkammer hilft, die gleichmäßige Abscheidung über die Probe aufrechtzuerhalten. Das Gerät umfasst auch eine innovative automatisierte Kammerhöhensteuerung, die eine ebene Substrathöhe und eine gleichmäßige Plasmadispersion über dem Substrat gewährleistet. Was TOKYO ELECTRON INDY PLUS-B-M wirklich auszeichnet, ist seine benutzerfreundliche, hochpräzise Plasmaätzsoftware. Die Maschine verfügt über eine robuste, vom Benutzer einstellbare Leistungsregelung zur Steuerung von Ätzzeit, Leistung und Arbeitszyklus. Durch seine leistungsstarken Automatisierungsmodi ermöglicht der Ätzer eine einfache Prozessentwicklung und -optimierung. Es verfügt auch über eine 3D-grafische Anzeige der Ätzkammer, die es Benutzern ermöglicht, den Ätzprozess zu überwachen und zu steuern. Darüber hinaus verfügt TOKYO ELECTRON INDY PLUS B-M über ein leistungsstarkes optisches Emissionsspektrometer zur präzisen Endpunktdetektion. Ein Quarzrohrofen ist auch für die dehnungsfreie Verarbeitung von thermisch instabilen Substraten enthalten. Die automatischen Schicht-für-Schicht-Absetzungsfähigkeiten des etcher machen es leicht, die Schichtendicke von gezielten Strukturen zu schneidern. INDY PLUS B-M ist ein fortschrittlicher Ätzer mit hervorragender Leistung in einem kompakten und benutzerfreundlichen Paket. Mit seinem leistungsstarken Ätzprozess und intuitiven Steuerungssystemen macht es die Herstellung hochpräziser Strukturen einfacher denn je. Dieser Ätzer ist eine gute Wahl für die heutigen anspruchsvollen Halbleiterherstellungen.
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