Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON INDY PLUS B M #293637534 zu verkaufen

ID: 293637534
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2010
Diffusion furnace, 12" Carrier stage body Main body Vacuum box X-Precursor bubbler box Option box Heater PWR Box: XP41VP (2) XP42VP XS7VP XP2 XS5 Pump interphone MM1 INTFC 2XP1 XP56VP XS73VP (2) XT902 TMA SAFTY Unit XS103VP XP776VP XT 514-8 XT516 XT739 (2) XT901 TMA SAFTY Unit Interphone XP92VP XT530 XP40VP GRSO PCB CN1 GRSO CN2 (5) XT513 (11) XT514 (5) XT510 XT513-1 XT513-2 XT513-3 XT510-7 (2) XP 1028 EXC XP 1023 EXC XP 1024 EXC XP 1025 EXC T/C Unit T/C Cable T/C Box Control box top cover Gas piping duct RCU Piping box Piping Gas detector Smoke detector T/C Junction box G/Box exhaust connection FNC TOP Exhaust connection O2 Analyzer Vacuum box cover-1 Control box fox jig Cooling water piping Facility connection cover Scavenger cover Heater panel Vacuum box cover-2 Heater frame support Option box cover Shutter corer Carrier stage TOP Cover front panel Fixed tripod Positioning iron piece Screws Manifold Main valve Vacuum piping P1 Vacuum piping P2 Vacuum piping P3 Vacuum piping P4 Vacuum piping P5 (Bellow) Inner tube support ring Pedestal plate Center ring Outer tube lock ring Boat rotate support Inner tube lock ring Outer tube seal ring Manifold heater Vacuum piping tape heater Manifold ceiling water piping Leak check port handle valve Vacuum piping clamp Heater insulator Power box 2010 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON INDY PLUS B M ist eine leistungsstarke Ätzanlage, die den anspruchsvollen Anforderungen heutiger Halbleiterherstellungsprozesse gerecht wird. Dieser Ätzer ist in der Lage, verschiedene Substrate von Silizium bis hin zu organischen Materialien wie Kunststoffen und organischen Leuchtdioden (OLEDs) zu verarbeiten. Der fortschrittliche Ätzprozess des Systems, physikalische Dampfabscheidung (PVD) genannt, ermöglicht eine genaue Kontrolle der Form, Größe und Zusammensetzung jeder Schicht. Es zeichnet sich durch ein sehr gleichmäßiges Abscheidungsmuster und eine hohe Prozessausbeute aus. Der Ätzer ist mit einer Hochleistungs-CVD-Anlage (Chemical Vapor Deposition) zur schnellen und gleichmäßigen Plasmaätzung von Schichten ausgestattet. TEL INDY PLUS B-M bietet eine Reihe von Temperaturregelungsmöglichkeiten für optimale Ätzbedingungen. Es enthält sowohl eine Heizplatte als auch eine Induktionsheizung, die eine präzise Temperaturregelung bis zu 2000 ° C ermöglicht. Ein Elektromagnet in der Ätzkammer hilft, die gleichmäßige Abscheidung über die Probe aufrechtzuerhalten. Das Gerät umfasst auch eine innovative automatisierte Kammerhöhensteuerung, die eine ebene Substrathöhe und eine gleichmäßige Plasmadispersion über dem Substrat gewährleistet. Was TOKYO ELECTRON INDY PLUS-B-M wirklich auszeichnet, ist seine benutzerfreundliche, hochpräzise Plasmaätzsoftware. Die Maschine verfügt über eine robuste, vom Benutzer einstellbare Leistungsregelung zur Steuerung von Ätzzeit, Leistung und Arbeitszyklus. Durch seine leistungsstarken Automatisierungsmodi ermöglicht der Ätzer eine einfache Prozessentwicklung und -optimierung. Es verfügt auch über eine 3D-grafische Anzeige der Ätzkammer, die es Benutzern ermöglicht, den Ätzprozess zu überwachen und zu steuern. Darüber hinaus verfügt TOKYO ELECTRON INDY PLUS B-M über ein leistungsstarkes optisches Emissionsspektrometer zur präzisen Endpunktdetektion. Ein Quarzrohrofen ist auch für die dehnungsfreie Verarbeitung von thermisch instabilen Substraten enthalten. Die automatischen Schicht-für-Schicht-Absetzungsfähigkeiten des etcher machen es leicht, die Schichtendicke von gezielten Strukturen zu schneidern. INDY PLUS B-M ist ein fortschrittlicher Ätzer mit hervorragender Leistung in einem kompakten und benutzerfreundlichen Paket. Mit seinem leistungsstarken Ätzprozess und intuitiven Steuerungssystemen macht es die Herstellung hochpräziser Strukturen einfacher denn je. Dieser Ätzer ist eine gute Wahl für die heutigen anspruchsvollen Halbleiterherstellungen.
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