Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON INDY PLUS B M #293637541 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON INDY PLUS B M Ätzgeräte sind für die Serienfertigung von Wafern konzipiert und können in eine Vielzahl von nassen Bänken, Ladern und sauberen Stationen integriert werden. Mit fortschrittlichem induktiv gekoppeltem Plasma (ICP) und einem RTC-Modul (Rapid Thermal Cycling) bietet dieses System hervorragende Leistung bei Siliziumätzprozessen. Die Einheit wird mit einem Stationskontrollmaschinenzwischenkontrolleur (SCIC) ausgestattet, der Werkzeugoperation und Wartung vereinfacht. Eine einfach zu bedienende grafische Benutzeroberfläche, die bei Bedarf durch die Asset-Ports geführt wird und Punkt-zu-Punkt-Datenerfassung und Modellstatus ermitteln kann. Der SCIC wird durch eine Rezeptspeicherfunktion ergänzt, die die Speicherung mehrerer Rezepte ermöglicht und mit mehreren Systemen und Werkzeugkonfigurationen verwendet werden kann. TEL INDY PLUS B-M-Ätzgeräte verfügen über einen ICP-Generator und ein Rapid Thermal Cyclic (RTC) -Modul, um stabile und einheitliche Prozesse zu ermöglichen. ICP ist eine hochfrequente (13,56 MHz) kapazitiv gekoppelte Plasmaquelle. Das ICP trägt dazu bei, die Ätzgleichmäßigkeit zu verbessern, die Ätzrate zu erhöhen und während des gesamten Ätzprozesses eine hohe Selektivität zu gewährleisten. Mit dem ICP-Generator können Prozessanwendungen auch schnell und präzise abgestimmt werden, um die gewünschten Ätzergebnisse zu erzielen. Das RTC-Modul kann innerhalb von Millisekunden zwischen heiß und kalt fahren, um ein schnelles thermisches Glühen (RTA) durchzuführen, was die Prozessgleichmäßigkeit verbessert und kurze Ätzzeiten beibehält. TOKYO ELECTRON INDY PLUS-B-M Ätzsystem ist entworfen, um Temperatur und Wafer-Ebene Steuerung zu unterstützen. Zur Optimierung der Ätzrate und Gleichmäßigkeit wird die Prozesssubstrattemperatur gezielt überwacht und hoch reguliert, um Gasflussparameter und Leistungsstufen zu variieren. Für den Wafertransfer und die Handhabung sorgen auch die automatischen Ausrichtungs- und OCR-Merkmale, die sicherstellen, dass jedes Substrat mit seiner Hinterkante senkrecht zur Oberfläche des Wafers in die Prozesskammer eintritt. Dieses Gerät verwendet mehrere Pumpen, Turbomolekularpumpen und chemische Einspritzsysteme, um die Prozesskammer zu verwalten. Die eingebauten Massenstromregler (MFCs) steuern Prozesse, um eine kontrollierte Atmosphäre innerhalb der Kammer aufrechtzuerhalten. Darüber hinaus ist es mit einer Reihe von Sicherheitsmerkmalen wie Ionenstrahl-Sicherheitsläden, HF-Korb-Sicherheitsläden und Echtzeit-Kammerdrucküberwachung ausgelegt. Abschließend ist TEL/TOKYO ELECTRON INDY PLUS B-M Ätzmaschine ein zuverlässiges und robustes Ätzwerkzeug für die Herstellung von hochwertigen, präzisen Wafern. Die Kombination aus ICP, RTC und Wafer Level Control sorgt für eine Prozessgleichmäßigkeit und Ausbeuten mit stabilen Wiederholbarkeitsergebnissen. Seine intuitive Wärmebeständigkeit reduziert die Wartungskosten und unterstützt das Arbeiten in einer Vielzahl von Prozesskammern.