Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON INDY PLUS B M #293763486 zu verkaufen

ID: 293763486
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2016
Vertical furnace, 12" Process: Pyro Air valve: CKD VOS-56-101PT Heater Process chamber MFC, MFM: AERA MAIN / APC: CKD Gases: HCL, H2, O2, N2 Load lock system Storage 4-Color signal tower Carrier transfer Load port: Side FFU FIMS Port Wafer transfer Boat elevator Auto shutter Manufold scavenger (2) Boat transfers Boat stage Manifold Utility box: WAVES Controller GFC Display Operation panel Data I/O Hardware switch Gas unit Cooling unit APC controller Temperature controller Vacuum line Power box: EMO Unit Control board Hardware switch Transformer SCR Unit with controller N2 Purge unit RF Power Rapid cooling unit Pump box Gas subsystem: Gas supply unit Exhaust Vacuum line Operating system: Linux Power supply: 120/480 V, 3 Phase, Single phase 2016 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON INDY PLUS B M ist ein Ätzer/Ascher, der von TEL Limited (TOKYO ELECTRON), einem führenden Hersteller von Halbleiterausrüstungen, entworfen und produziert wurde. Der Ätzer/Ascher bietet erweiterte Funktionen, um die komplexen Anforderungen der fortschrittlichen Geräteherstellung zu bewältigen. TEL INDY PLUS B-M ist ein induktiv gekoppelter Plasmaätzer (ICP), der das Wachstum und die Leistung von Halbleiterbauelementen optimiert. Es ist mit einer präzisen, leistungsstarken ICP-Quelle für die Herstellung von industrienormalen, hochpräzisen Geräten ausgestattet. Die ICP-Quelle ermöglicht einen intensiven und gleichmäßigen Ätzprozess auch bei hohen Ätzraten. Der Ätzer/Ascher verfügt über einen automatisierten Plasmagenerator, eine Prozesskammer, eine Kammer-Obersteuerung, ein Vakuumsystem, eine reaktive Gasfördereinheit, Pumpen- und Reglerkomponenten. Die Vakuummaschine ist mit einer Doppelpumpenkonfiguration für verbesserte Leistung und Zuverlässigkeit sowie einer Gasdiffusionsbarriere und einem Vakuumsensor ausgestattet, die die Vakuumqualität optimieren. Das reaktive Gasförderwerkzeug ermöglicht eine genaue Kontrolle der Ätzbedingungen für präzise Ätzvorgänge. Die Prozesskammer unterstützt mehrere Eintrittsöffnungen zur präzisen Einleitung reaktiver Gase und weist ein variables Ungleichmäßigkeitskompensationsmerkmal für eine verbesserte Prozessgleichförmigkeit auf. Das Kammerdeck ist mit einem 3-stufigen automatischen Absperrventil für erhöhte Sicherheit bei Plasmabelastungen ausgestattet. TOKYO ELECTRON INDY PLUS-B-M kommt auch mit einer breiten Palette von erweiterten Prozessoptionen, einschließlich Wafer Chargenbeladung, Kühlung, Entgasung, Schichtübertragung und Endpunktsteuerung (EPC). Die EPC-Funktion ermöglicht eine präzise Steuerung des Prozessendpunkts und ermöglicht Gerätetechnikern die Optimierung der Geräteleistung. Das Wafer Batch Loading Asset unterstützt bis zu vier Wafer und ermöglicht hohe Durchsatzprozesse. TEL/TOKYO ELECTRON INDY PLUS B-M Ätzer/Ascher ist ein ausgezeichnetes Werkzeug für die Fertigung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente. Es bietet zuverlässige und präzise Ätzleistung sowie fortschrittliche Prozessmerkmale für die optimierte Geräteherstellung.
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