Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON INDY PLUS B M #293763486 zu verkaufen
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ID: 293763486
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2016
Vertical furnace, 12"
Process: Pyro
Air valve: CKD
VOS-56-101PT Heater
Process chamber
MFC, MFM: AERA
MAIN / APC: CKD
Gases: HCL, H2, O2, N2
Load lock system
Storage
4-Color signal tower
Carrier transfer
Load port: Side FFU
FIMS Port
Wafer transfer
Boat elevator
Auto shutter
Manufold scavenger
(2) Boat transfers
Boat stage
Manifold
Utility box:
WAVES Controller
GFC Display
Operation panel
Data I/O
Hardware switch
Gas unit
Cooling unit
APC controller
Temperature controller
Vacuum line
Power box:
EMO Unit
Control board
Hardware switch
Transformer
SCR Unit with controller
N2 Purge unit
RF Power
Rapid cooling unit
Pump box
Gas subsystem:
Gas supply unit
Exhaust
Vacuum line
Operating system: Linux
Power supply: 120/480 V, 3 Phase, Single phase
2016 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON INDY PLUS B M ist ein Ätzer/Ascher, der von TEL Limited (TOKYO ELECTRON), einem führenden Hersteller von Halbleiterausrüstungen, entworfen und produziert wurde. Der Ätzer/Ascher bietet erweiterte Funktionen, um die komplexen Anforderungen der fortschrittlichen Geräteherstellung zu bewältigen. TEL INDY PLUS B-M ist ein induktiv gekoppelter Plasmaätzer (ICP), der das Wachstum und die Leistung von Halbleiterbauelementen optimiert. Es ist mit einer präzisen, leistungsstarken ICP-Quelle für die Herstellung von industrienormalen, hochpräzisen Geräten ausgestattet. Die ICP-Quelle ermöglicht einen intensiven und gleichmäßigen Ätzprozess auch bei hohen Ätzraten. Der Ätzer/Ascher verfügt über einen automatisierten Plasmagenerator, eine Prozesskammer, eine Kammer-Obersteuerung, ein Vakuumsystem, eine reaktive Gasfördereinheit, Pumpen- und Reglerkomponenten. Die Vakuummaschine ist mit einer Doppelpumpenkonfiguration für verbesserte Leistung und Zuverlässigkeit sowie einer Gasdiffusionsbarriere und einem Vakuumsensor ausgestattet, die die Vakuumqualität optimieren. Das reaktive Gasförderwerkzeug ermöglicht eine genaue Kontrolle der Ätzbedingungen für präzise Ätzvorgänge. Die Prozesskammer unterstützt mehrere Eintrittsöffnungen zur präzisen Einleitung reaktiver Gase und weist ein variables Ungleichmäßigkeitskompensationsmerkmal für eine verbesserte Prozessgleichförmigkeit auf. Das Kammerdeck ist mit einem 3-stufigen automatischen Absperrventil für erhöhte Sicherheit bei Plasmabelastungen ausgestattet. TOKYO ELECTRON INDY PLUS-B-M kommt auch mit einer breiten Palette von erweiterten Prozessoptionen, einschließlich Wafer Chargenbeladung, Kühlung, Entgasung, Schichtübertragung und Endpunktsteuerung (EPC). Die EPC-Funktion ermöglicht eine präzise Steuerung des Prozessendpunkts und ermöglicht Gerätetechnikern die Optimierung der Geräteleistung. Das Wafer Batch Loading Asset unterstützt bis zu vier Wafer und ermöglicht hohe Durchsatzprozesse. TEL/TOKYO ELECTRON INDY PLUS B-M Ätzer/Ascher ist ein ausgezeichnetes Werkzeug für die Fertigung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente. Es bietet zuverlässige und präzise Ätzleistung sowie fortschrittliche Prozessmerkmale für die optimierte Geräteherstellung.
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