Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Indy Plus #293649527 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Indy Plus ist eine renommierte Ätz-/Ascheausrüstung, die von TEL (TOKYO ELECTRON), einem weltweit führenden Anbieter fortschrittlicher Halbleiterproduktionsanlagen, entwickelt wurde. Dieses hochmoderne System ist darauf ausgelegt, eine breite Palette von häufig verwendeten Halbleitermaterialien durch plasmaaktivierte chemische Spezies präzise zu strukturieren, zu ätzen und zu mikronisieren. Dazu gehören Polysilizium, Polyimide, Siliziumnitrid, Nitridetch und polydotiertes Silizium. TEL INDYPLUS Ätz-/Ascheprozess umfasst zwei Schritte: Vorätzen und Nachätzen. Der Vorätzprozess erzeugt mit Hilfe einer induktiv gekoppelten Plasmaquelle (ICP) die für die Ätzkonfiguration der Halbleitermaterialien notwendigen Ionen. Diese Stufe liefert gleichmäßiges, qualitativ hochwertiges Ätzen auf alle Zieloberflächen des Substrats. Für den Post-Etch-Prozess verfügt TOKYO ELECTRON INDY PLUS über eine beeindruckende Digital Enhanced Derive Anisotropy (DEDA). Dieses wertvolle Merkmal ermöglicht ein hochpräzises Ätzen der Zieloberflächen des Substrats. Mit dieser Präzisionsätzung kann die INDYPLUS-Maschine eine Auflösungsrate von bis zu 5 Nanometern erreichen. Darüber hinaus verwendet INDY PLUS eine perforierte Geometrie, die eine hohe Gleichmäßigkeit der Gasströmung zum Ätzbereich gewährleistet. Diese Gleichmäßigkeit garantiert ein reproduzierbares Ätzmuster während des gesamten Prozesses. Indy Plus kommt auch mit einem hochauflösenden Mikroskopie-Tool, um die Ätzmuster zu überprüfen. Es ermöglicht die Echtzeit-Bildgebung und ermöglicht es Benutzern, den Fortschritt ihres Ätzprozesses zu überwachen sowie auf Fehler und andere Unvollkommenheiten zu überprüfen. Als zusätzliches Sicherheitsmerkmal umfasst TEL/TOKYO ELECTRON INDY PLUS Asset auch ein Verschlussdetektionsmodell, das verhindert, dass Strahlung beim Schließen des Verschlusses durch das Gerät gelangt. Insgesamt bietet das TOKYO ELECTRON Indy Plus-System die perfekte Plattform für die Herstellung von Mikrostrukturen und Eigenschaften im Nanometermaßstab auf einer Vielzahl von Substraten mit hoher Wiederholbarkeit und Genauigkeit. Durch seine fortschrittlichen Technologien und Ätzfähigkeiten bietet es eine hervorragende Leistung und ist ideal für eine Reihe von Anwendungen wie fortschrittliche Lithographie, MEMS-Geräte und integrierte Schaltungsentwicklung.