Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Indy Plus #9250264 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Indy Plus ist ein Hochleistungs-Ätzer/Ascher für vor der Lithographie. Es ist zur effizienten Entfernung von Oxidschichten aus Silizium oder Verbundhalbleiterscheiben ausgebildet, wobei auch Schichten abgestreift werden können. TEL INDYPLUS ist mit verschiedenen Merkmalen wie der Gleichmäßigkeit zwischen der oberen und der unteren Oberfläche der Wafer konzipiert und ist in der Lage, die Ascherleistung zu kontrollieren, ohne Partikelverschmutzung zu verursachen. ELEKTRON VON TOKIO INDY PLUS hat einen direkten Rückfluss verfeinernde Doppelfrequenz-Plasmaquelle. Diese Konstruktion ermöglicht eine gleichmäßige Ätzwirkung auf die obere und untere Oberfläche des Wafers, was zu einem besseren Durchsatz und einer höheren Genauigkeit führt. Das Produkt ist mit einem fortschrittlichen Prozessleitsystem auf Waferebene ausgestattet, das eine präzise und stabile Ätz- und Ascheleistung ermöglicht. Zusätzlich gibt es ein eingebettetes Überwachungssystem für den Druck und die Temperatur in der Reaktionskammer. Die Reaktionskammer verfügt über ein einzigartiges Stromversorgungssystem für verschiedene Ätz-/Ascheprozesse. Auf diese Weise können Anwender die gewünschte Plasmaleistung für verschiedene Prozesszwecke wie Ätzschicht oder Folie, Oberflächenreinigung und Rückstandsentfernung auswählen. Darüber hinaus verfügt TEL INDY PLUS über integrierte Sicherheitsfunktionen zur Vermeidung von Unfällen und Todesfällen sowie zur Verringerung potenzieller Schäden an den Produkten. TEL/TOKYO ELECTRON INDYPLUS kommt auch mit einem Niederdruck, Low-Power und Timing-gesteuerte Lieferung von Prozessgasen. Dadurch wird sichergestellt, dass beim Ätz-/Aschevorgang keine Schäden an den Wafern auftreten. Es kann verschiedenste Substrate hocheffizient verarbeiten, wobei keine Rückstände auf der Oberfläche verbleiben. Es hat auch eine schnelle und stabile Anpassung von Ätz- und Ascheparametern, die den Bedürfnissen des Benutzers entsprechen. Abschließend ist Indy Plus ein vielseitiger und effizienter Ätzer/Ascher für Silizium- und Verbundhalbleiterscheiben. Mit seiner leistungsstarken Plasmaquelle, dem direkten Reflow-Top-Down-Design und integrierten Sicherheitsmerkmalen kann es konsistente, einheitliche Ergebnisse mit einer hohen Genauigkeit liefern.