Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Indy #9379803 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Indy
ID: 9379803
Wafergröße: 12"
Furnace, 12" Process: Nitride.
TEL/TOKYO ELECTRON Indy ist ein Ätzer/Ascher, der mit fortschrittlichen und präzisen Technologien entwickelt wurde, um den Anforderungen der heutigen Halbleiterproduktion gerecht zu werden. Es ist mit einer hochwertigen Dampfquelle ausgestattet, die eine Ätzrate von bis zu 10 Mikron pro Minute liefert. Der Ätzer/Ascher verfügt über eine automatische Profilsteuerung, die einen hochpräzisen, gleichmäßigen Ätzvorgang ermöglicht. Es ist so konzipiert, dass es mit allen Arten von Ätz- und Spülgasen kompatibel ist, einschließlich CO2, CH4, SiH4, CF4, CH2F2 und SF6. Der Ätzer/Ascher ist so programmiert, dass er eine außergewöhnliche Prozesswiederholbarkeit mit Gleichmäßigkeit und Prozessgenauigkeit bietet, die für die Herstellung fortgeschrittener Halbleiterbauelemente erforderlich sind. Es verfügt über eine einzigartige, Auto-Feedback-Ausrüstung, die ständig Temperatur und Druck überwacht, um die optimalen Ätzprozessparameter beizubehalten. Dieses effiziente System hilft, die Probleme im Zusammenhang mit Temperatur- und Druckschwankungen zu beseitigen. Sicherheitstechnisch ist der Ätzer/Ascher mit einer Reihe von Vorsichtsmaßnahmen ausgelegt, um Techniker vor gefährlichen Stoffen zu schützen. Dazu gehören Sicherheitsvalidierungs- und Absperrsysteme sowie eine automatische Drucksteuerung. Zusätzlich hilft eine trockenseitige Inertgasmaschine, den Ätz-/Aschepartikelrückstand aus der Kammer zu entfernen. TEL Indy wurde speziell entwickelt, um den Anforderungen und Anforderungen fortschrittlicher Ätz- und Ascheanwendungen gerecht zu werden. Seine fortschrittlichen Eigenschaften machen diesen Ätzer/Ascher ideal für die präzise und genaue Herstellung hochentwickelter Halbleiterbauelemente. Es wurde entwickelt, um die Wiederholbarkeit von Prozessen und Steuerparameter beizubehalten und die Zykluszeiten zu optimieren. Mit seinen überlegenen Eigenschaften bietet der Ätzer/Ascher eine intuitive und zuverlässige Lösung für die heutigen Hochvolumen-Halbleiter-Produktionslinien.
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