Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON SCCM Shin #9261824 zu verkaufen
URL erfolgreich kopiert!
TEL/TOKYO ELECTRON SCCM Shin ist eine Ätz-/Ascher-Ausrüstung, die in Halbleiter- und Verbundhalbleiterherstellungsprozessen verwendet wird. Es wurde entwickelt, um die Abscheidung und das Ätzen dünner Metallschichten genau zu steuern und eignet sich ideal zum Schneiden komplexer Formen und zum Erstellen verschiedener Nanostrukturen. Dieses Ätz-/Aschersystem ist ideal für eine Reihe von Forschungsanwendungen wie Mikro- und Nanoelektronik, Mikrofluidik, Photovoltaik, Optoelektronik und Biologie. TEL SCCM Shin ist eine gasbetriebene Ätz-/Aschereinheit mit einem Duschkopf mit mehreren Gaseinlässen und einer präzisen Steuerungsmaschine. Seine Hauptkomponenten sind der Duschkopf, temperaturgesteuerte Ätzkammer, Einlassleitungen und ein trockenes Gas- und Ausstoßwerkzeug. Der Brausekopf besteht aus mehreren Gaseinlässen, in die unterschiedliche Gase zum Ätzen oder Aschen bei unterschiedlichen Temperaturen eingeleitet werden können, wodurch eine genaue Temperaturregelung gewährleistet ist. Der Brausekopf ist von einer inerten Atmosphärenkammer umgeben, um eine Reaktion zwischen Substrat und Gas zu verhindern. Die temperaturgesteuerte Ätzkammer ist für eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit und Stabilität ausgelegt. Es ist mit Einlassleitungen ausgestattet, die es ermöglichen, verschiedene Gase einzuleiten, so dass der Ätzer/Ascher eine breite Palette von Ätz- und Ascheeffekten bietet. Das Ätz-/Ascher-Asset verfügt auch über ein Dry Gassing Model (DGS) und Ejector Equipment (ES). Das DGS ist für die schnelle Abscheidung von Metallschichten auf dem Substrat konzipiert und verfügt über Quarz- und Wolframelektroden, mit der Möglichkeit, bis zu vier Elektroden zu verwenden. Das ES wird zum Ätzen dünner Filme verwendet und ermöglicht Feinzielätzen und Ionenstrahlätzen. Es ist mit einem Hochfrequenzgenerator, einer Ätzpistole und einem Substrathalter ausgestattet. TOKYO ELECTRON SCCM Shin Ätz-/Aschersystem ist in der Lage, Metallschichten mit hoher Präzision und ausgezeichneter Gleichmäßigkeit zu ätzen und abzuscheiden. Es kann auch zum Mustern einer Vielzahl von Substraten mit hochpräzisen Ätzeigenschaften verwendet werden. Dieses Gerät ist äußerst vielseitig einsetzbar und kann für verschiedene Anwendungen eingesetzt werden, was es zu einer idealen Wahl für Forscher in der Halbleiter- und Verbundhalbleiterherstellung macht.
Es liegen noch keine Bewertungen vor