Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Tactras Vesta NV3 #293603576 zu verkaufen

ID: 293603576
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2018
Polysilicon etcher, 12" (2) AC Distribution boxes Main frame: Loader module (3) Load ports Vaccum transfer module: Transfer module (2) Loadlock modules Process module​: PM1: Vesta NV3 PM2: Vesta NV3 PM5: RF-3 PM6: Vesta NV3 (3) HF RF Power supplies (4) Gas boxes (3) RF Generators (3) TMP Controllers 2018 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Tactras Vesta NV3 ist ein zuverlässiger, effizienter und präziser Plasmaätzer/Ascher, der für eine Vielzahl von Anwendungen verwendet wird. TEL Tactras Vesta NV3 arbeitet mit der 'Plasma Enhanced Etching' -Technik, die Hochtemperatur, hohes elektrisches Feld und hochenergetische Ionen verwendet. Diese Ätzmethode ermöglicht ein präzises Ätzen auf präzisen Mustern sowie ein breites Spektrum an Tiefätzen/Aschen. TOKYO ELECTRON Tactras Die Schnittstelle von Vesta NV3 ist benutzerfreundlich und ermöglicht eine präzise und einfache Steuerung von Ätzparametern. Es enthält auch eine intuitive grafische Benutzeroberfläche, die Produktionszykluszeiten verkürzt und die Produktivität verbessert. Der Ätzer/Ascher unterstützt mehrere Substratgrößen von 200mm bis 300mm und ist somit vielseitig einsetzbar und ideal für eine Vielzahl von Halbleiterproduktionsprozessen. Das NV3 verfügt auch über ein modernes Ofenmodul, das hilft, ungleichmäßige Heizung zu reduzieren und hilft gleichmäßiges Ätzen. Darüber hinaus verfügt es über ein Pumpensystem, das einen geringeren Verbrauch an Gasen aufweist, wodurch die Kosten für Ätzprozesse reduziert werden. Das NV3 ist mit SEGARD (Super Etching Gas Analysis Data Recording) ausgestattet, die eine genaue Aufzeichnung der Gasverteilung auf der Ätzoberfläche ermöglicht. Dies trägt dazu bei, die Genauigkeit von Ätzmustern zu verbessern und die Gleichmäßigkeit des Ätzprozesses sicherzustellen. Einige der von der NV3 angebotenen Funktionen umfassen die automatische Substrattemperaturregelung, die automatische Auslass-Temperaturregelung und die automatische Grabenbildung. Diese Merkmale sind wichtig, da sie dazu beitragen, die Substrattemperatur konstant zu halten und die Prozessgleichförmigkeit zu verbessern. Das NV3 ist auch in der Lage, gleichzeitig bis zu 10 Wafer zu ätzen, was die Produktivität und den Durchsatz drastisch erhöht. Abschließend ist Tactras Vesta NV3 Plasmaätzer/Ascher ein hochpräziser, zuverlässiger Ätzer/Ascher, der in einer Vielzahl von Produktionsprozessen eingesetzt wird. Solche Merkmale ermöglichen ein gleichmäßiges Ätzen, einen schnelleren Durchsatz und eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit auf einem breiten Spektrum von Substratgrößen.
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