Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Tactras Vesta #9221865 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Tactras Vesta ist eine Ätz-/Aschereinrichtung, die für die Herstellung von Halbleiterbauelementen entwickelt wurde. Das System besteht aus einer Prozesskammer, einer Vakuumkammer und einer Steuereinheit. Die Prozesskammer enthält mehrere Lagen von Produktionsbehältern, in denen reaktive Gase gekühlt und im Kreislauf geführt werden. Die Ätz-/Aschevorgänge werden dann durch Zuführen der Gase auf das Substrat erreicht. Der Prozess des Ätzens/Aschens erfolgt mit Hochfrequenzplasma, das von mehreren HF-Generatoren erzeugt wird und von allen vier Seiten auf das Substrat aufgebracht wird. Das Gerät ist als reaktiver Ionenätzer (RIE) mit einem Wafer konzipiert, was es zu einem geeigneten Werkzeug für präzise Ätzprozesse mit Submikron-Genauigkeit macht. Es ist auch eine vakuumbasierte Maschine, die es Anwendern ermöglicht, eine bescheidene Anzahl von Prozessschritten zu erreichen und gleichzeitig die Qualität des Substrats in seinem Vorprozesszustand zu erhalten. Die mit der Prozesskammer verbundene Vakuumkammer arbeitet daran, die Ätzratenschwankungen durch Umweltgasverschmutzung zwischen Prozessrezepten zu reduzieren. Darüber hinaus kommt das Tool mit TEL Tactras Vesta Controller-Einheit, die eine benutzerfreundliche Oberfläche bietet, so dass Benutzer einfach konfigurieren und speichern verschiedene Ätz- und Ascherezepte. Der Benutzer kann bis zu drei Ätzrezepte und bis zu drei Ashing-Rezepte nach ihren spezifischen Bedürfnissen optimieren und speichern. Die Anlage bietet außerdem eine verbesserte Prozessstabilität, da sie eine spezielle Kühlvorrichtung verwendet, die die Temperatur in der Vakuumkammer aufrechterhält, sowie einen Niederdruckinjektor. All diese Merkmale machen TOKYO ELECTRON Tactras Vesta zu einem ausgezeichneten Ätz-/Ascherwerkzeug für Halbleiterherstellungsprozesse. Es ist ein benutzerfreundliches Modell mit vielen Funktionen, die es ideal für Mikroherstellungsprozesse machen. Das Gerät bietet einen verbesserten Durchsatz und eine bessere Ätzgleichförmigkeit des Substrats, was dazu beiträgt, Erträge zu maximieren, Kosten zu senken und die Qualität der integrierten Schaltungen zu verbessern.