Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON TE 5000 #293652771 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON TE 5000
ID: 293652771
Wafergröße: 6"
Etchers, 6".
TEL/TOKYO ELECTRON TE 5000 ist ein Ätz- und Aschersystem, das unter anderem in der Halbleiterherstellung eingesetzt wird. Das System besteht aus einer Prozesskammer, einem Wafer-Transferroboter, Lastschließfächern und einer Steuerung. Die Prozesskammer ist ein vakuumdichtes Edelstahlgehäuse mit einer Planarisierungskammer, einem induktiv gekoppelten Plasma (ICP) oder einer Elektronenstrahlquelle (EB) und zwei Gasfördersystemen. Die Planarisierungskammer ist so ausgelegt, dass sie am Rand des Ätzmusters eine effektive Plasmahüllenschicht bereitstellt und im Boden des Grabens einen gleichmäßigen Überätzen ermöglicht, wodurch eine genaue Strukturierung möglich ist. Die ICP- oder EB-Quelle ist für das Ätzen von Gräben, das Aktivieren und Trockenätzen von SiO2 und Si3N4 Schichten verantwortlich. Die beiden Gasfördersysteme sind für die Versorgung der Ätz- und Reinigungsgase zur effizienten Plasmaätzung und Druckerfassung in der Prozesskammer verantwortlich. Der Wafer-Transferroboter ist für die Übertragung von Wafern innerhalb der Prozesskammer und zwischen der Prozesskammer und den Lastschlössern verantwortlich. Der Roboter ist mit einem Bump-Aligner ausgestattet, um die im Kammerboden eingebetteten Wafer und Spuren zur Positionierung des Roboterarms auszurichten. Der Roboter wird von der Robotersteuerung und Software gesteuert, um den Wafertransport sicher und sicher zu gewährleisten. Die Lasthunde werden verwendet, um die Wafer während des Einsteckens sicher zu halten und in die Prozesskammer zu entnehmen. Die Ladehunde verfügen über einen eingebauten Mikropositionierer und eine Vakuum-Sensorsteuerung, um eine korrekte Positionierung des Wafers zu gewährleisten. Der Regler ist für die Steuerung der Betriebsabläufe des gesamten Systems verantwortlich. Der Controller besteht aus einer Hauptplatine, einer Benutzerschnittstellenplatine, einer Anzeigetafel und einer Kommunikationsschnittstellenplatine. Es überwacht und regelt den Prozess einschließlich Gasfluss, Leistungsstufen, Temperaturen und Drücken sowie Bewegung von Wafern. Alle Parameter müssen genau überwacht werden, um den Erfolg des Prozesses zu gewährleisten. TEL TE5000 bietet im Vergleich zu manuellen Prozessen eine überlegene Ätz- und Ascheleistung, die eine verbesserte Produktivität und Ausbeute bietet.
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