Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON TE 5000 #9192931 zu verkaufen

ID: 9192931
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1991
Plasma etcher, 6" Process: Oxide Vacuum type Gauge: MKS 622A02RAE Pressure gauge VACUUM GEMERAI CMLA-21 Pressure gauge (2) GRANVILLE PHILLIPS 275071 Convection gauges Sub module: EDWARDS CDP80 Dry pump EDWARDS DP80 Dry pump SEIKO SEIKI MG-STPH600C-T21/60 TMP SMC INR-341-60A-X15 Chiller TEL / TOKYO ELECTRON Chiller Trans OEM Valve: VEXTA PH265-02 APC (3) KURODA C-2-50-60-R3 Gates Gas flow control: STEC SEC-4400RC 100 SCCM MFC (CHF4) STEC SEC-4400MC-302 100 SCCM MFC (CF4) STEC SEC-4400MC-302 1 SLM MFC (Ar) STEC SEC-4400MC-302 1 SLM MFC (He) STEC SEC-4400M 50 SCCM MFC (N2) RF Unit: DAIHEN MFG-20SA3A Generator DAIHEN MFG-20SA3 RF Controller ASTECH ATL-100 Matcher JOBIN YVON H-10 VIS EPD TEL GAP Power supply: 208-230 VAC, 50/60 Hz, 40 A, 3 Phase 1991 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON TE 5000 ist ein Ätzer oder Ascher, der im Halbleiterherstellungsprozess verwendet wird. Es handelt sich um eine automatisierte Maschine, die die Produktionszeit verringert und Ätzprozesse auf einem Siliziumsubstrat organisiert. Das Gerät ist für präzise Prozessgenauigkeit, Glasfaserkommunikation und schnelle Datenübertragung verteilbar. TEL TE5000 ist auf Flexibilität ausgelegt. Es ist mit einem hochsteifen Rahmen ausgestattet, der ein einfaches, sicheres und präzises Be- und Entladen von Substraten ermöglicht. Es verfügt über eine korrosionsbeständige und luftdichte Operationskammer, zusätzlich zu einem eingebauten Vakuumsystem, das die Dichtigkeit der Prozesskammer gewährleistet. TOKYO ELECTRON TE-5000 ist mit einem automatisierten Wafer/Substrat-Halter ausgestattet, der programmiert werden kann, um eine präzise Übertragung des Substrats auf die richtige Bearbeitungsposition zu ermöglichen. Dies gewährleistet eine genaue Ätzung während des gesamten Prozesslaufs. Darüber hinaus ist TEL/TOKYO ELECTRON TE5000 auch mit einer vollautomatischen Matchup-Station ausgestattet, die eine automatische Einrichtung des Substrats und der Umgebung innerhalb der Kammer ermöglicht. Die Maschine wird von einem Hochleistungsmotor angetrieben, der die gesamte Ätzeinheit antreiben kann. Der Motor ist mit fortschrittlichen Steuerungssystemen wie einem dreistufigen Netzteil ausgestattet, das den Leistungspegel automatisch nach dem gewünschten Prozess überwacht und anpasst und präzise Ätzergebnisse gewährleistet. Darüber hinaus passen hochgenaue Bewegungssteuerungssysteme die Geschwindigkeit und Beschleunigung des Prozesses an, so dass sehr genaue Ergebnisse erzielt werden können. Die Maschine bietet auch Fehlerüberprüfungsfunktionen mit einer Anzeigemaschine, die es dem Bediener ermöglicht, Ätzbedingungen vor dem Prozessstart zu überprüfen. Dies ist wesentlich, um sicherzustellen, dass die Maschine korrekt und ohne Abweichungen arbeitet. Um einen effizienten und zuverlässigen Prozess zu gewährleisten, ist TEL TE 5000 mit verschiedenen Funktionen ausgestattet. Zum Beispiel wird ein hochgenauer Flip-Stacker verwendet, um Substrat bis zu 400 mm ohne Verzerrungen anzuheben und zu senken. Darüber hinaus ist die Maschine auch mit einem zentralen Transfer ausgestattet, der die Bewegung von Substrat- und Vakuumsystemen während der Verarbeitung nachahmt. Abschließend bietet TEL TE-5000 Anwendern eine leistungsfähige und zuverlässige Ätzlösung für eine Vielzahl von Halbleiteranwendungen. Die integrierten Automatisierungs- und Überwachungsfunktionen sorgen für Prozessgenauigkeit, um jedes Mal konsistente Ergebnisse zu erzielen.
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