Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON TE 5000S #9091958 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON TE 5000S
ID: 9091958
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1995
Oxide etcher, 6" Chamber 1995 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON TE 5000S ist eine fortschrittliche Ätzmaschine für die Halbleiterherstellung. Dieses Modell ist ein Einkammer-Vertikalätzer mit einer Vakuumkammer für bis zu 3-4 Ätzgleichungen. Dieses Ätzwerkzeug verwendet Prozessparameter, die für eine Vielzahl von Wafergrößen und -konfigurationen angepasst werden können, wodurch ein qualitativ hochwertiges Ätzen aller Arten von Halbleitermaterialien ermöglicht wird. TEL TE 5000S nutzt zwei Hauptkammern. Die untere Kammer ist die „Ätzkammer“, in der die Ätzhardware inklusive Substrat-Shuttle, Rohrheizung und Halter sowie die Prozesseinrichtungen wie die Reaktions- und Gasfördersysteme untergebracht sind. In der oberen Kammer befindet sich der Wafer während der Verarbeitung. Hier dient eine Vakuum- und Mikrowellenfrequenzplatte zur Erwärmung des Wafers vor der Verarbeitung und Unterstützung des Wafers zum Spalten und Ätzen von Blättern. TOKYO ELECTRON TE 5000 S verfügt über eine Vielzahl von Prozessfähigkeiten, darunter konventionelles und tiefes Ätzen, Musterätzen und auswählbares Flächenätzen. Es ist in der Lage, Silizium, Galliumarsenid und andere Arten von amorphen und polykristallinen Halbleitermaterialien zu ätzen. Durch den Einsatz von in situ chemischen, thermischen und elektrischen Verarbeitung bietet TE 5000S eine Vielzahl von Prozessrezepten für die Herstellung von elektronischen Bauelementen und Halbleitermaterialien. TEL/TOKYO ELECTRON TE 5000 S ist mit einem mehrstufigen Bewegungssteuerungssystem ausgestattet, das ein Vakuum- und Bewegungsmimsystem umfasst, das die Schritte des Ätzprozesses vor Beginn simuliert. Dadurch kann der Anwender den Ätzprozess anpassen und optimieren, um eine maximale Ätzleistung zu erzielen. Zusätzlich können TOKYO ELECTRON TE 5000S programmiert werden, um bestimmte Schichtkonfigurationen und Strukturen nach Bedarf für verschiedene Prozesse zu ätzen. TE 5000 S arbeitet mit einer Hochleistungs-HF-Quelle, um die benötigte Plasmaenergie für die Ätzverarbeitung zu erzeugen. Diese Quelle wird verwendet, um sowohl die Ätzrate als auch die Tiefe des Ätzprozesses zu steuern. Darüber hinaus bietet TEL TE 5000 S eine Vielzahl von Funktionen wie Kartierung und Profilierung, Optimierung der Reaktionsquelle sowie Steuerung der Gaschemie, um die Ätzergebnisse zu verbessern. Abschließend ist TEL/TOKYO ELECTRON TE 5000S ein hochmodernes vertikales Ätzsystem, das eine Vielzahl von Prozessfähigkeiten und Funktionen bietet. Mit seinem breiten Spektrum an Ätzrezepten und Verarbeitungsfähigkeiten ist TEL TE 5000S ein vielseitiges Werkzeug für die Herstellung von Halbleiterbauelementen und bietet qualitativ hochwertige Ätzergebnisse.
Es liegen noch keine Bewertungen vor