Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON TE 580 #9137192 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON TE 580 ist eine Ätz-/Aschermaschine, die von TEL Ltd. Dieses System ist für Anwendungen in der Halbleiterindustrie konzipiert, einschließlich Photolithographie, Tiefenreaktivionenätzen (DRIE) und Plasmaätzen. Die Einheit ist mit einer mehrkanaligen Plasmaquelle, einem einzigen Waferaktor und einem drehbaren Suszeptor innerhalb der Prozesskammer ausgestattet. TEL TE 580 ist sehr zuverlässig und kann hochauflösende Muster schnell und präzise verarbeiten, was Kosten und Durchlaufzeit reduziert. TOKYO ELECTRON TE 580 ist eine voll integrierte Maschine mit einer Kombination aus Hardware, Software und Prozesstechnik. Die Prozesskammern ermöglichen das gleichzeitige Ätzen mehrerer Wafer. Das Werkzeug verfügt über ein Parametereinstellfenster mit einer einfach zu bedienenden grafischen Oberfläche zur schnellen und genauen Einstellung der Ätzparameter. TE 580 hat auch einen drehbaren Suszeptor, der im Vergleich zu herkömmlichen Aschersystemen ein einheitliches Muster ermöglicht. TEL/TOKYO ELECTRON TE 580 kann sowohl Trocken- als auch Nassätzprozesse durchführen und seine mehrkanalige Plasmaquelle verwendet die Elektronenzyklotronresonanz (ECR) -Technologie zur effizienten Plasmaerzeugung. Das Asset bietet eine große Flexibilität bei der Optimierung von Baselines und Prozessrezepten für verschiedene Materialien und Anwendungen. Das Modell ist auch mit einer ultra-hohen Vakuumfähigkeit ausgestattet, die es ideal für die Durchführung von Prozessen wie High-Aspect-Ratio DRIE und Remote-Plasmaätzen macht. TEL TE 580 wurde entwickelt, um die hohen Anforderungen der Halbleiterindustrie für hohe Erträge, Qualität und Leistung zu erfüllen. Das Gerät ist mit fortschrittlichen Prozesskontrollfunktionen ausgestattet, die wiederholbare Prozesse gewährleisten. Das System ist in der Lage, High-End-Prozessparameter wie Temperatur, Plasmaleistung, Druckregelung, Substrattemperatur, Ionendosis und Ionenenergie zu steuern. Zusätzlich ist TOKYO ELECTRON TE 580 mit speziellen Werkzeugen zur detaillierten Prozessanalyse ausgestattet, um die Ausbeuten zu maximieren und die Variabilität der Ätzergebnisse zu minimieren. Zusammenfassend ist TE 580 eine zuverlässige und leistungsstarke Aschereinheit für die Halbleiterindustrie. Die mehrkanalige Plasmaquelle, der drehbare Suszeptor und die erweiterte Prozesssteuerungsfähigkeit machen es ideal für präzise und wiederholbare Ätzprozesse mit hoher Auflösung. Die Hochvakuum- und Prozessanalyse der Maschine sorgen konsequent für hervorragende Ergebnisse.