Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON TE 580LC #9091959 zu verkaufen
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TEL/TOKYO ELECTRON TE 580LC ist ein hochpräziser Plasmaätzer/Ascher, der in einer Vielzahl von Halbleiterherstellungsverfahren eingesetzt werden kann. Die Maschine verwendet Plasma, um Muster oder Ascher in ein Halbleitersubstrat zu ätzen. Die fortschrittliche Technologie ermöglicht einen hohen Durchsatz und niedrige Fehlerraten sowie eine verbesserte Folieneinheitlichkeit und Wiederholbarkeit von Substrat zu Substrat. Die Maschine hat eine hohe Geschwindigkeit von bis zu 300mm/s, die sicherstellt, dass der Ätz- oder Ascherprozess schnell abgeschlossen ist und die hohe Durchsatzrate die Produktivität maximiert. Die starre Konstruktion und die fortschrittliche Motorsteuerung sorgen für genaues Ätzen, da die Maschine auch bei hoher Geschwindigkeit keine Vibration hat. Die vertikale Lastverriegelungskonfiguration sorgt für einfaches Be- und Entladen von Proben. Darüber hinaus sind minimale Übergabeverzögerungen durch hohe Massengenauigkeit und Temperaturregelung möglich. TEL TE 580LC verfügt über eine variable Druckkammer, die ein Qualitätsplasma für Ätz- oder Ascheprozesse bilden kann. Dadurch kann die Maschine mit einer breiten Palette von Ätzmitteln wie fluorhaltigen Chemikalien, halbleiterhaltigen Salzsäuren und schwefelhaltigen Säuren arbeiten. Es hat auch Titan integral bearbeitete Substrathalter, so dass ein sehr gleichmäßiger Ätzprozess. Zur Benutzerfreundlichkeit hat die Maschine auch ein ergonomisches Design, das einen abgewinkelten LCD-Monitor zum Benutzer hin umfasst, und eine benutzerfreundliche GUI (Graphical User Interface) mit maßgeschneiderten Prozesseinstellungen und einem großen Speicher für die Rezeptspeicherung. Um die Sicherheit zu gewährleisten, verfügt TOKYO ELECTRON TE 580LC über ein einzigartiges integriertes Lecksuchsystem, das potenzielle Gefahren für das Austreten korrosiver Flüssigkeit automatisch erkennt und alarmiert sowie über hocheffiziente, programmierbare Sicherheitsprotokolle. Insgesamt ist TE 580LC ein erstklassiger Ätzer/Ascher mit einer Reihe von Funktionen, die äußerst zuverlässige, wiederholbare und kostengünstige Prozesse liefern. Seine fortschrittliche Technologie ermöglicht ein effizientes und genaues Ätzen oder Aschen mit minimalen Übertragungsverzögerungen aufgrund hoher Massengenauigkeit und kontrollierter Temperaturen. Zusätzliche Merkmale wie die variable Druckkammer und titanbearbeitete Substrathalter sorgen für höchste Ätzqualität. Sein ergonomisches Design, benutzerfreundliche GUI und Sicherheitsprotokolle tragen zur Benutzerfreundlichkeit bei und sorgen für Sicherheit bei der Verarbeitung.
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