Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON TE 7000 #293667492 zu verkaufen
URL erfolgreich kopiert!
TEL/TOKYO ELECTRON TE 7000 ist ein Hochgeschwindigkeitsätzer/-ascher, der bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet wird. Es wurde entwickelt, um eine Vielzahl von Ätz- und Ascheanwendungen zu bearbeiten, einschließlich ein- und mehrschichtiger Prozesse. TEL TE 7000 verfügt über einen Elektronenstrahl mit einer Ladung, der hochpräzise Bilder mit einer minimalen CD-Variation erzeugen kann. Der Balken ist so konzipiert, dass er eine minimale Oberflächenverschmutzung gewährleistet und Schäden an der Schmelze reduziert. Das Gerät ist auch in der Lage, erweiterte Indizierungsfunktionen wie Mitte Auswahl und wiederholen Muster. TOKYO ELECTRON TE 7000 ist in der Lage, viele Materialien zu ätzen, darunter Aluminium, Silizium, Lot, PHG und WF 2. Das System verfügt über eine programmierbare Ionenquellen-Leistungssteuerung und mehrere programmierbare Prozesse, darunter Low-Seepage, Multi-Level und optimierte Prozesse mit hohem Seitenverhältnis. Es kann auch nasse Prozeßätz- und Ascheoperationen durchführen. TE 7000 ist mit fortschrittlicher Technologie zur Waferorientierung und Musterausrichtung ausgestattet, einschließlich einer Wafer-Map-Messmaschine und einem Vakuumfutter, die beide eine hohe Präzision beim Ätzen und Aschen gewährleisten. Die Ätz- und Ascheprozesse sind auch mit einem rückseitigen Heizwerkzeug zur Regelung der Temperatur innerhalb der Kammer ausgestattet. Darüber hinaus verfügt die Anlage über ein automatisiertes Evakuierungs- und Abgasmodell, um eine saubere Umgebung für die Bearbeitungsproben zu erhalten. TEL/TOKYO ELECTRON TE 7000 wurde entwickelt, um mit minimalen Ausfallzeiten zu arbeiten und die Produktivität zu maximieren. Das Gerät ist mit fortschrittlichen Sicherheitsfunktionen und einer intuitiven Benutzeroberfläche ausgestattet, wodurch es einfach zu bedienen und zu warten ist. Insgesamt ist TEL TE 7000 ein Hochgeschwindigkeitsätzer/Ascher mit hoher Präzision, der für fortschrittliche Produktionsverfahren von Halbleiterbauelementen entwickelt wurde. Seine fortschrittlichen Eigenschaften gewährleisten ein genaues Ätzen und Aschen von Materialien mit minimaler Oberflächenverschmutzung und Nachschmelzschäden und die programmierbaren Einstellungen sorgen für eine optimale Prozesskontrolle. Das System ist zuverlässig, einfach zu bedienen und mit Sicherheitsmerkmalen für maximale Produktivität konzipiert.
Es liegen noch keine Bewertungen vor