Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON TE 8401 #293637515 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON TE 8401 ist ein Ätzer oder Ascher zur Herstellung von Mikroelektronik. Dieses Gerät nutzt 49 parallele Plasmaquellen-Impuls-Vorspannung, um eine präzise Ätzung fortgeschrittener mikroelektronischer Strukturen durchzuführen. Es bietet bis zu 100 nm Ätzgenauigkeit und Durchsatz von bis zu 800 Wafern pro Stunde. TEL TE 8401 verfügt über eine horizontal ausgerichtete Inline-Konstruktion, die je nach Prozessbedarf eine effiziente Teilebewegung und den Austausch verschiedener Bearbeitungsmodule ermöglicht. Es hat einen kleinen Platzbedarf, aber seine fortschrittliche Pulsed Plasma Etch Technologie hat eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit und Genauigkeit und bietet eine präzise Kontrolle über Ätzraten, Profile und Messungen kritischer Abmessungen. Das System ist für das Ätzen von ultradünnen Materialien wie Aluminium, Kupfer und Low-K dielektrischen Materialien mit hoher Selektivität und niedrigem Profil optimiert. Die optimierte Gleichmäßigkeit von TOKYO ELECTRON TE-8401 ermöglicht eine bessere Integration der dünnen dielektrischen Schicht in Bauelementen mit größerer Lithographie- und Ätzprozesskompatibilität. Weitere wesentliche Merkmale von TE-8401 sind ein hohes Seitenverhältnis für erhöhte Funktionsdichte, ein enges Prozessfenster für eine verbesserte Prozesssteuerung und ein hohes Maß an Materialverbrauchseffizienz. Darüber hinaus unterstützt es die Prozessautomatisierung auf hohem Niveau mit seinem Remote-Portal und der Prozessüberwachung. TEL TE-8401-Einheit unterstützt auch die fortschrittliche PEP-Technologie (Pulsed Etch Process), die in der Lage ist, 3D-Drahtnivellierung, komplexere Designs und dünnere dielektrische Schichten unter Beibehaltung einer ausgezeichneten Profil- und Ätzratenkontrolle zu handhaben. Darüber hinaus trägt die automatisierte Rezeptsteuerung mit ihrer schichtweisen Präzision und Genauigkeit zur Reduzierung von Fertigungszeit und -kosten bei. Insgesamt ist TOKYO ELECTRON TE 8401 Ätzer oder Ascher eine fortschrittliche Maschine, die für das ultrapräzise Ätzen fortschrittlicher mikroelektronischer Strukturen für die mittlere bis große Produktion entwickelt wurde. Die hohe Verarbeitungsgeschwindigkeit, die Pulse-Plasma-Etch-Technologie und die Prozessautomatisierung machen es zu einer idealen Lösung für die Herstellung immer komplexerer Halbleiterbauelemente.