Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON TE 8401 #9144795 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON TE 8401
ID: 9144795
Wafergröße: 8"
Dry etcher, 8".
TEL/TOKYO ELECTRON TE 8401 ist eine leistungsstarke, fortschrittliche Ätz-/Aschermaschine, die entwickelt wurde, um Material schnell und effizient von der Oberfläche eines Werkstücks zu entfernen. Es ist eine beliebte Wahl für verschiedene Halbleiter- und andere Mikroelektronik-Anwendungen und wurde entwickelt, um den Anforderungen moderner Halbleiterfertigungslinien gerecht zu werden. TEL TE 8401 ist sowohl in nassen als auch in trockenen Prozessen ätzbar. Das System wurde entwickelt, um eine kontrollierte Druck- und Temperaturumgebung für effizientes Ätzen sowie eine präzise Beschichtung während des gesamten Zyklus bereitzustellen. TOKYO ELECTRON TE-8401 verwendet eine multipositionierte, dynamische, einstellbare Spanneinheit, die die notwendige Werkstückorientierung für effizientes Ätzen und Abdecken bietet. Die Maschine umfasst ein Mischsteuerungswerkzeug, das Prozesssteuerungsparameter für mehr Ätzeffizienz und Genauigkeit diversifiziert. TOKYO ELECTRON TE 8401 ist mit einem fortschrittlichen Steuergerät für die Stromquelle ausgestattet. Es verwendet einen Dualmodus, variablen Frequenzgenerator, um Einstellungen für bestimmte Anwendungen oder verschiedene Werkstückmaterialien bereitzustellen. Die einstellbare Stromversorgung ermöglicht eine vollständige Kontrolle der Plasmaquellenrate und -intensität, wodurch der Benutzer den Ätzprozess optimieren kann. TEL/TOKYO ELECTRON TE-8401 enthält auch ein Rückgewinnungsmodell, um während des Ätzprozesses freiwerdendes Gas oder Material zu sammeln und einen sauberen Betrieb zu gewährleisten. Die integrierte Vakuumausrüstung entfernt flüchtige Dämpfe, während das Filtersystem Schleifpartikel einfängt. Diese Luftreinigungsanlage minimiert die Emissionen der Maschine und sorgt für eine saubere und sichere Arbeitsumgebung. TE 8401 ist ein zuverlässiges, hocheffizientes und anerkanntes Ätzwerkzeug und eine beliebte Wahl bei Halbleiter- und Mikroelektronikherstellern. Sein Mix Control Asset, fortschrittliche Plasmaquelle, einstellbares Futter und integriertes Recovery-Modell bieten überlegene Ätz- und Beschichtungsleistung, während seine Luftreinigungsausrüstung Emissionen minimiert. Dieses Ätz-/Aschersystem wurde entwickelt, um für komplexe Halbleiter- und Mikroelektronik-Anwendungen freie Ätzlösungen bereitzustellen.
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